4 ″ ଗାଲିୟମ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ |

ସଂକ୍ଷିପ୍ତ ବର୍ଣ୍ଣନା:

4 ″ ଗାଲିୟମ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ |- ସେମିକେରାର ଉଚ୍ଚ-ଗୁଣାତ୍ମକ 4 ″ ଗାଲିୟମ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ସହିତ ପାୱାର୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ସ ଏବଂ UV ଉପକରଣଗୁଡ଼ିକରେ ନୂତନ ସ୍ତରର ଦକ୍ଷତା ଏବଂ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତାକୁ ଅନଲକ୍ କରନ୍ତୁ, ଅତ୍ୟାଧୁନିକ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ପ୍ରୟୋଗଗୁଡ଼ିକ ପାଇଁ ପରିକଳ୍ପିତ |


ଉତ୍ପାଦ ବିବରଣୀ

ଉତ୍ପାଦ ଟ୍ୟାଗ୍ସ |

ସେମିସେରା |ଗର୍ବର ସହିତ ଏହାର ପରିଚୟ କରାଏ |4 "ଗାଲିୟମ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ |ଉଚ୍ଚ କ୍ଷମତା ସମ୍ପନ୍ନ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଉପକରଣଗୁଡ଼ିକର ବ demands ୁଥିବା ଚାହିଦା ପୂରଣ କରିବା ପାଇଁ ଏକ ଭୂମିପୂଜକ ପଦାର୍ଥ ଇଞ୍ଜିନିୟରିଂ | ଗାଲିୟମ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ (ଗା2O3) ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଏକ ଅଲ୍ଟ୍ରା-ୱାଇଡ୍ ବ୍ୟାଣ୍ଡଗ୍ୟାପ୍ ପ୍ରଦାନ କରେ, ଯାହା ସେମାନଙ୍କୁ ପରବର୍ତ୍ତୀ ପି generation ଼ିର ପାୱାର ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ସ, UV ଅପ୍ଟୋଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ସ ଏବଂ ଉଚ୍ଚ-ଫ୍ରିକ୍ୱେନ୍ସି ଉପକରଣଗୁଡ଼ିକ ପାଇଁ ଆଦର୍ଶ କରିଥାଏ |

 

ମୁଖ୍ୟ ବ Features ଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକ:

ଅଲ୍ଟ୍ରା-ୱାଇଡ୍ ବ୍ୟାଣ୍ଡଗାପ୍ |: ଦ4 "ଗାଲିୟମ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ |ପାଖାପାଖି 4.8 ଇଭିର ଏକ ବ୍ୟାଣ୍ଡପ୍ୟାପ୍ ଗର୍ବ କର, ଅସାଧାରଣ ଭୋଲଟେଜ୍ ଏବଂ ତାପମାତ୍ରା ସହନଶୀଳତା ପାଇଁ ଅନୁମତି ଦେଇ, ସିଲିକନ୍ ପରି ପାରମ୍ପାରିକ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ସାମଗ୍ରୀଠାରୁ ଯଥେଷ୍ଟ ଅଧିକ |

ହାଇ ବ୍ରେକଡାଉନ୍ ଭୋଲଟେଜ୍ |: ଏହି ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଗୁଡିକ ଉଚ୍ଚ ଭୋଲ୍ଟେଜ୍ ଏବଂ ପାୱାରରେ କାର୍ଯ୍ୟ କରିବାକୁ ଉପକରଣଗୁଡ଼ିକୁ ସକ୍ଷମ କରିଥାଏ, ଯାହା ସେମାନଙ୍କୁ ପାୱାର ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ସରେ ହାଇ-ଭୋଲଟେଜ୍ ପ୍ରୟୋଗଗୁଡ଼ିକ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ କରିଥାଏ |

ସର୍ବୋଚ୍ଚ ତାପଜ ସ୍ଥିରତା |: ଗାଲିୟମ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ତାପଜ ଚାଳନା ପ୍ରଦାନ କରେ, ଚରମ ଅବସ୍ଥାରେ ସ୍ଥିର କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ସୁନିଶ୍ଚିତ କରେ, ଚାହିଦା ପରିବେଶରେ ବ୍ୟବହାର ପାଇଁ ଆଦର୍ଶ |

ଉଚ୍ଚ ପଦାର୍ଥ ଗୁଣ |: ନିମ୍ନ ତ୍ରୁଟିର ଘନତା ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ସ୍ଫଟିକ୍ ଗୁଣ ସହିତ, ଏହି ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଗୁଡିକ ନିର୍ଭରଯୋଗ୍ୟ ଏବଂ ସ୍ଥିର କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ସୁନିଶ୍ଚିତ କରେ, ଯାହା ଆପଣଙ୍କର ଉପକରଣଗୁଡ଼ିକର କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଏବଂ ସ୍ଥାୟୀତ୍ୱକୁ ବ .ାଇଥାଏ |

ବହୁମୁଖୀ ପ୍ରୟୋଗ |: ପାୱାର୍ ଟ୍ରାନଜିଷ୍ଟର, ସ୍କଟ୍କି ଡାୟୋଡ୍, ଏବଂ UV-C LED ଉପକରଣ ସହିତ ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରକାରର ପ୍ରୟୋଗ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ, ଉଭୟ ଶକ୍ତି ଏବଂ ଅପ୍ଟୋଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ କ୍ଷେତ୍ରରେ ନୂତନତ୍ୱକୁ ସକ୍ଷମ କରିଥାଏ |

 

ସେମିକେରା ସହିତ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଟେକ୍ନୋଲୋଜିର ଭବିଷ୍ୟତ ଏକ୍ସପ୍ଲୋର୍ କରନ୍ତୁ |4 "ଗାଲିୟମ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ |। ଆମର ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଗୁଡିକ ଅତ୍ୟାଧୁନିକ ପ୍ରୟୋଗଗୁଡ଼ିକୁ ସମର୍ଥନ କରିବାକୁ ଡିଜାଇନ୍ ହୋଇଛି, ଆଜିର ଅତ୍ୟାଧୁନିକ ଉପକରଣଗୁଡ଼ିକ ପାଇଁ ଆବଶ୍ୟକ ନିର୍ଭରଯୋଗ୍ୟତା ଏବଂ ଦକ୍ଷତା ପ୍ରଦାନ କରିଥାଏ | ତୁମର ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ସାମଗ୍ରୀରେ ଗୁଣବତ୍ତା ଏବଂ ନୂତନତା ପାଇଁ ସେମିସେରାକୁ ବିଶ୍ୱାସ କର |

ଆଇଟମ୍

ଉତ୍ପାଦନ

ଅନୁସନ୍ଧାନ |

ଡମି

ସ୍ଫଟିକ୍ ପାରାମିଟରଗୁଡିକ |

ପଲିଟାଇପ୍ |

4H

ସର୍ଫେସ୍ ଆରିଏଣ୍ଟେସନ୍ ତ୍ରୁଟି |

<11-20> 4 ± 0.15 ° |

ବ Elect ଦ୍ୟୁତିକ ପାରାମିଟରଗୁଡିକ |

ଡୋପାଣ୍ଟ |

n- ପ୍ରକାର ନାଇଟ୍ରୋଜେନ୍ |

ପ୍ରତିରୋଧକତା |

0.015-0.025ohm · cm

ଯାନ୍ତ୍ରିକ ପାରାମିଟରଗୁଡିକ |

ବ୍ୟାସ

150.0 ± 0.2 ମିମି

ମୋଟା |

350 ± 25 μm

ପ୍ରାଥମିକ ଫ୍ଲାଟ ଆଭିଏଣ୍ଟେସନ୍ |

[1-100] ± 5 ° |

ପ୍ରାଥମିକ ଫ୍ଲାଟ ଲମ୍ବ |

47.5 ± 1.5 ମିମି

ଦ୍ Secondary ିତୀୟ ଫ୍ଲାଟ |

କିଛି ନୁହେଁ |

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm (5mm * 5mm)

≤5 μm (5mm * 5mm)

≤10 μm (5mm * 5mm)

ଧନୁ

-15μm ~ 15μm |

-35μm ~ 35μm |

-45μm ~ 45μm |

ଯୁଦ୍ଧ

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

ସାମ୍ନା (ସି-ଚେହେରା) ରୁଗ୍ଣତା (AFM)

Ra≤0.2nm (5μm * 5μm)

ଗଠନ

ମାଇକ୍ରୋପାଇପ୍ ସାନ୍ଧ୍ରତା |

<1 ea / cm2

<10 ea / cm2

<15 ea / cm2

ଧାତୁ ଅଶୁଦ୍ଧତା |

≤5E10atoms / cm2 |

NA

BPD

≤1500 ea / cm2 |

0003000 ea / cm2 |

NA

TSD

≤500 ea / cm2 |

0001000 ea / cm2 |

NA

ଆଗ ଗୁଣବତ୍ତା |

ଆଗ

Si

ପୃଷ୍ଠଭୂମି ଶେଷ

ସି-ମୁହଁ CMP

କଣିକା |

≤60ea / wafer (size≥0.3μm)

NA

ସ୍କ୍ରାଚ୍ |

≤5ea / mm ସଂଗୃହିତ ଲମ୍ବ ≤ ଡାଇମିଟର |

ସଂକଳନ ଦ length ର୍ଘ୍ୟ≤2 * ବ୍ୟାସ |

NA

କମଳା ଚୋପା / ଗର୍ତ୍ତ / ଦାଗ / ଷ୍ଟ୍ରିଏସନ୍ / ଫାଟ / ପ୍ରଦୂଷଣ |

କିଛି ନୁହେଁ |

NA

ଏଜ୍ ଚିପ୍ସ / ଇଣ୍ଡେଣ୍ଟସ୍ / ଫ୍ରାକଚର୍ / ହେକ୍ସ ପ୍ଲେଟ୍ |

କିଛି ନୁହେଁ |

ପଲିଟାଇପ୍ କ୍ଷେତ୍ରଗୁଡିକ |

କିଛି ନୁହେଁ |

ସଂଗୃହିତ କ୍ଷେତ୍ର ≤20% |

ସଂଗୃହିତ କ୍ଷେତ୍ର ≤30% |

ଆଗ ଲେଜର ମାର୍କିଂ |

କିଛି ନୁହେଁ |

ପଛ ଗୁଣ

ପଛକୁ ଶେଷ

C- ମୁହଁ CMP |

ସ୍କ୍ରାଚ୍ |

≤5ea / mm, ସଂଗୃହିତ ଲମ୍ବ≤2 * ବ୍ୟାସ |

NA

ପଛ ଦୋଷ (ଧାର ଚିପ୍ସ / ଇଣ୍ଡେଣ୍ଟସ୍)

କିଛି ନୁହେଁ |

ପଛ ରୁଗ୍ଣତା |

Ra≤0.2nm (5μm * 5μm)

ପଛ ଲେଜର ମାର୍କିଂ |

1 ମିମି (ଉପର ଧାରରୁ)

ଧାର

ଧାର

ଚାମ୍ଫର୍ |

ପ୍ୟାକେଜିଂ

ପ୍ୟାକେଜିଂ

ଭାକ୍ୟୁମ୍ ପ୍ୟାକେଜିଂ ସହିତ ଏପି-ପ୍ରସ୍ତୁତ |

ମଲ୍ଟି ୱେଫର୍ କ୍ୟାସେଟ୍ ପ୍ୟାକେଜିଂ |

* ଟିପ୍ପଣୀ : "NA" ର ଅର୍ଥ କ no ଣସି ଅନୁରୋଧ ଆଇଟମଗୁଡିକ SEMI-STD କୁ ସୂଚିତ କରିପାରିବ ନାହିଁ |

tech_1_2_size
SiC ୱାଫର୍ |

  • ପୂର୍ବ:
  • ପରବର୍ତ୍ତୀ: