ଏକକ ସ୍ଫଟିକଗୁଡିକର ରେଡିଆଲ୍ ପ୍ରତିରୋଧକତାର ସମାନତାକୁ ପ୍ରଭାବିତ କରିବାର ମୁଖ୍ୟ କାରଣଗୁଡ଼ିକ ହେଉଛି କଠିନ-ତରଳ ଇଣ୍ଟରଫେସର ସମତଳତା ଏବଂ ସ୍ଫଟିକ୍ ଅଭିବୃଦ୍ଧି ସମୟରେ ଛୋଟ ବିମାନ ପ୍ରଭାବ |
କଠିନ-ତରଳ ଇଣ୍ଟରଫେସର ସମତଳର ପ୍ରଭାବ ସ୍ଫଟିକ ଅଭିବୃଦ୍ଧି ସମୟରେ, ଯଦି ତରଳିବା ସମାନ ଭାବରେ ଉତ୍ତେଜିତ ହୁଏ, ସମାନ ପ୍ରତିରୋଧ ପୃଷ୍ଠଟି ହେଉଛି କଠିନ-ତରଳ ଇଣ୍ଟରଫେସ୍ (ତରଳିବାରେ ଅପରିଷ୍କାର ଏକାଗ୍ରତା ସ୍ଫଟିକରେ ଥିବା ଅପରିଷ୍କାର ଏକାଗ୍ରତା ଠାରୁ ଭିନ୍ନ, ତେଣୁ ପ୍ରତିରୋଧକତା ଅଲଗା, ଏବଂ ପ୍ରତିରୋଧ କେବଳ କଠିନ-ତରଳ ଇଣ୍ଟରଫେସରେ ସମାନ) | ଯେତେବେଳେ ଅପରିଷ୍କାର K <1, ତରଳିବା ପାଇଁ ଇଣ୍ଟରଫେସ୍ କନଭକ୍ସ ମ the ିରେ ରେଡିଆଲ୍ ପ୍ରତିରୋଧକତା ଉଚ୍ଚ ଏବଂ ଧାରରେ କମ୍ ହେବ, ଯେତେବେଳେ ତରଳିବା ପାଇଁ ଇଣ୍ଟରଫେସ୍ ବିପରୀତ ଅଟେ | ଫ୍ଲାଟ କଠିନ-ତରଳ ଇଣ୍ଟରଫେସର ରେଡିଆଲ୍ ପ୍ରତିରୋଧକତା ସମାନତା ଭଲ | ସ୍ଫଟିକ୍ ଟାଣିବା ସମୟରେ କଠିନ-ତରଳ ଇଣ୍ଟରଫେସର ଆକୃତି ତାପଜ କ୍ଷେତ୍ର ବଣ୍ଟନ ଏବଂ ସ୍ଫଟିକ୍ ଅଭିବୃଦ୍ଧି ଅପରେଟିଂ ପାରାମିଟର ପରି କାରକ ଦ୍ୱାରା ନିର୍ଣ୍ଣୟ କରାଯାଏ | ସିଧାସଳଖ ଟାଣାଯାଇଥିବା ଏକକ ସ୍ଫଟିକରେ, କଠିନ-ତରଳ ପୃଷ୍ଠର ଆକୃତି ହେଉଛି ଚୁଲାର ତାପମାତ୍ରା ବଣ୍ଟନ ଏବଂ ସ୍ଫଟିକ୍ ଉତ୍ତାପ ବିସ୍ତାର ପରି କାରକଗୁଡିକର ମିଳିତ ପ୍ରଭାବର ଫଳାଫଳ |
ସ୍ଫଟିକ୍ ଟାଣିବାବେଳେ, କଠିନ-ତରଳ ଇଣ୍ଟରଫେସରେ ଚାରୋଟି ମୁଖ୍ୟ ପ୍ରକାରର ଉତ୍ତାପ ବିନିମୟ ଅଛି:
ତରଳ ସିଲିକନ୍ କଠିନୀକରଣ ଦ୍ୱାରା ମୁକ୍ତ ପର୍ଯ୍ୟାୟ ପରିବର୍ତ୍ତନର ଲୁକ୍କାୟିତ ଉତ୍ତାପ |
ତରଳର ଉତ୍ତାପ ଚାଳନା |
ସ୍ଫଟିକ୍ ମାଧ୍ୟମରେ ଉପରକୁ ଉତ୍ତାପ ଚାଳନା |
ସ୍ଫଟିକ ମାଧ୍ୟମରେ ବାହ୍ୟରେ ବିକିରଣ ଉତ୍ତାପ |
ସମଗ୍ର ଇଣ୍ଟରଫେସ୍ ପାଇଁ ଲୁକ୍କାୟିତ ଉତ୍ତାପ ସମାନ, ଏବଂ ଅଭିବୃଦ୍ଧି ହାର ସ୍ଥିର ହେଲେ ଏହାର ଆକାର ପରିବର୍ତ୍ତନ ହୁଏ ନାହିଁ | (ଦ୍ରୁତ ଉତ୍ତାପ ଚାଳନା, ଦ୍ରୁତ ଥଣ୍ଡା ଏବଂ ବର୍ଦ୍ଧିତ କଠିନତା ହାର)
ଯେତେବେଳେ ବ growing ୁଥିବା ସ୍ଫଟିକର ମୁଣ୍ଡ ଏକକ ସ୍ଫଟିକ ଚୁଲାର ଜଳ-ଥଣ୍ଡା ବିହନ ସ୍ଫଟିକ ରଡ ନିକଟରେ ଥାଏ, ସ୍ଫଟିକରେ ଥିବା ତାପମାତ୍ରା ଗ୍ରେଡିଏଣ୍ଟ ବଡ଼ ହୋଇଥାଏ, ଯାହା ସ୍ଫଟିକର ଦ୍ରାଘିମା ଉତ୍ତାପକୁ ଭୂପୃଷ୍ଠ ବିକିରଣ ଉତ୍ତାପଠାରୁ ଅଧିକ କରିଥାଏ, ତେଣୁ କଠିନ-ତରଳ ଇଣ୍ଟରଫେସ୍ ତରଳିବା ପାଇଁ ଉନ୍ମୁକ୍ତ |
ଯେତେବେଳେ ସ୍ଫଟିକ୍ ମ middle ିରେ ବ ows େ, ଦ୍ରାଘିମା ଉତ୍ତାପ ଚାଳନା ଭୂପୃଷ୍ଠ ବିକିରଣ ଉତ୍ତାପ ସହିତ ସମାନ, ତେଣୁ ଇଣ୍ଟରଫେସ୍ ସିଧା ଅଟେ |
ସ୍ଫଟିକର ଲାଞ୍ଜରେ ଦ୍ରାଘିମା ଉତ୍ତାପ ଚାଳନା ଭୂପୃଷ୍ଠ ବିକିରଣ ଉତ୍ତାପଠାରୁ କମ୍ ଅଟେ, ଯାହା କଠିନ-ତରଳ ଇଣ୍ଟରଫେସ୍ ତରଳିବାରେ ଅବତରଣ କରିଥାଏ |
ୟୁନିଫର୍ମ ରେଡିଆଲ୍ ପ୍ରତିରୋଧକତା ସହିତ ଏକକ ସ୍ଫଟିକ୍ ପାଇବା ପାଇଁ, କଠିନ-ତରଳ ଇଣ୍ଟରଫେସ୍ ସମାନ ହେବା ଆବଶ୍ୟକ |
ବ୍ୟବହୃତ ପଦ୍ଧତିଗୁଡ଼ିକ ହେଉଛି: ther ତାପଜ କ୍ଷେତ୍ରର ରେଡିୟାଲ୍ ତାପମାତ୍ରା ଗ୍ରେଡିଏଣ୍ଟ୍ ହ୍ରାସ କରିବାକୁ ସ୍ଫଟିକ୍ ଅଭିବୃଦ୍ଧି ତାପଜ ପ୍ରଣାଳୀକୁ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ କରନ୍ତୁ |
କ୍ରିଷ୍ଟାଲ୍ ଟାଣିବା ଅପରେସନ୍ ପାରାମିଟରଗୁଡିକ ଆଡଜଷ୍ଟ୍ କରନ୍ତୁ | ଉଦାହରଣ ସ୍ୱରୂପ, ତରଳିବା ପାଇଁ ଏକ ଇଣ୍ଟରଫେସ୍ କନଭକ୍ସ ପାଇଁ, ସ୍ଫଟିକ୍ କଠିନତା ହାର ବ to ାଇବା ପାଇଁ ଟାଣିବା ବେଗକୁ ବ increase ାନ୍ତୁ | ଏହି ସମୟରେ, ଇଣ୍ଟରଫେସରେ ପ୍ରକାଶିତ ସ୍ଫଟିକୀକରଣ ଲୁକ୍କାୟିତ ଉତ୍ତାପର ବୃଦ୍ଧି ହେତୁ, ଇଣ୍ଟରଫେସ ନିକଟରେ ତରଳିବା ତାପମାତ୍ରା ବ increases ିଥାଏ, ଫଳସ୍ୱରୂପ ଇଣ୍ଟରଫେସରେ ସ୍ଫଟିକର ଏକ ଅଂଶ ତରଳି ଯାଇ ଇଣ୍ଟରଫେସକୁ ସମତଳ କରିଦେଲା | ଅପରପକ୍ଷେ, ଯଦି ଅଭିବୃଦ୍ଧି ଇଣ୍ଟରଫେସ୍ ତରଳିବା ଆଡକୁ ଅବତରଣ କରେ, ଅଭିବୃଦ୍ଧି ହାର ହ୍ରାସ ହୋଇପାରେ, ଏବଂ ତରଳିବା ଅନୁରୂପ ପରିମାଣକୁ ଦୃ solid କରିବ, ଅଭିବୃଦ୍ଧି ଇଣ୍ଟରଫେସକୁ ସମତଳ କରିବ |
The ସ୍ଫଟିକ୍ କିମ୍ବା କ୍ରୁସିବଲ୍ ର ଘୂର୍ଣ୍ଣନ ଗତି ନିୟନ୍ତ୍ରଣ କରନ୍ତୁ | ସ୍ଫଟିକ୍ ଘୂର୍ଣ୍ଣନ ବେଗ ବୃଦ୍ଧି କରିବା ଦ୍ୱାରା ଉଚ୍ଚ-ତାପମାତ୍ରା ତରଳ ପ୍ରବାହ କଠିନ-ତରଳ ଇଣ୍ଟରଫେସରେ ତଳରୁ ଉପରକୁ ଗତି କରିବ, ଇଣ୍ଟରଫେସ୍ କନଭକ୍ସରୁ ଅବତରଣକୁ ପରିବର୍ତ୍ତନ କରିବ | କ୍ରୁସିବଲ୍ ର ଘୂର୍ଣ୍ଣନ ଦ୍ୱାରା ସୃଷ୍ଟି ହୋଇଥିବା ତରଳ ପ୍ରବାହର ଦିଗ ପ୍ରାକୃତିକ ସଂକଳନ ସହିତ ସମାନ, ଏବଂ ଏହାର ପ୍ରଭାବ ସ୍ଫଟିକ୍ ଘୂର୍ଣ୍ଣନ ସହିତ ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ବିପରୀତ |
The କ୍ରୁସିବଲ୍ ର ଆଭ୍ୟନ୍ତରୀଣ ବ୍ୟାସ୍ର ଅନୁପାତର ସ୍ଫଟିକର ବ୍ୟାସ ସହିତ ଅନୁପାତ କଠିନ-ତରଳ ଇଣ୍ଟରଫେସକୁ ସମତଳ କରିବ, ଏବଂ ସ୍ଫଟିକରେ ସ୍ଥାନାନ୍ତରର ଘନତା ଏବଂ ଅମ୍ଳଜାନ ପରିମାଣକୁ ମଧ୍ୟ ହ୍ରାସ କରିପାରେ | ସାଧାରଣତ ,, ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ବ୍ୟାସ: ସ୍ଫଟିକ୍ ବ୍ୟାସ = 3 ~ 2.5: 1 |
ଛୋଟ ବିମାନ ପ୍ରଭାବର ପ୍ରଭାବ |
ସ୍ଫଟିକ୍ ଅଭିବୃଦ୍ଧିର କଠିନ-ତରଳ ଇଣ୍ଟରଫେସ୍ କ୍ରୁସିବଲ୍ ରେ ତରଳିବା ଆଇସୋଥର୍ମର ସୀମିତତା ହେତୁ ପ୍ରାୟତ cur ବକ୍ର ହୋଇଯାଏ | ସ୍ଫଟିକ୍ ଅଭିବୃଦ୍ଧି ସମୟରେ ଯଦି ସ୍ଫଟିକ୍ ଶୀଘ୍ର ଉଠାଯାଏ, (111) ଜର୍ମାନି ଏବଂ ସିଲିକନ୍ ଏକକ ସ୍ଫଟିକଗୁଡିକର କଠିନ-ତରଳ ଇଣ୍ଟରଫେସରେ ଏକ ଛୋଟ ଫ୍ଲାଟ ବିମାନ ଦେଖାଯିବ | ଏହା ହେଉଛି (111) ପରମାଣୁ କ୍ଲୋଜ-ପ୍ୟାକ୍ ହୋଇଥିବା ବିମାନ, ଯାହାକୁ ସାଧାରଣତ a ଏକ ଛୋଟ ବିମାନ କୁହାଯାଏ |
ଛୋଟ ବିମାନ ଅଞ୍ଚଳରେ ଥିବା ଅପରିଷ୍କାର ଏକାଗ୍ରତା ଅଣ-ଛୋଟ ବିମାନ କ୍ଷେତ୍ରଠାରୁ ବହୁତ ଭିନ୍ନ | ଛୋଟ ବିମାନ ଅଞ୍ଚଳରେ ଅପରିଷ୍କାର ବଣ୍ଟନର ଏହି ଘଟଣାକୁ ଛୋଟ ବିମାନ ପ୍ରଭାବ କୁହାଯାଏ |
ଛୋଟ ବିମାନ ପ୍ରଭାବ ଯୋଗୁଁ, ଛୋଟ ବିମାନ କ୍ଷେତ୍ରର ପ୍ରତିରୋଧକତା ହ୍ରାସ ପାଇବ ଏବଂ ଗୁରୁତର ଅବସ୍ଥାରେ ଅପରିଷ୍କାର ପାଇପ୍ କୋର ଦେଖାଯିବ | ଛୋଟ ବିମାନ ପ୍ରଭାବ ଦ୍ caused ାରା ସୃଷ୍ଟି ହୋଇଥିବା ରେଡିଆଲ୍ ପ୍ରତିରୋଧକ ଅମାନୁଷିକତାକୁ ଦୂର କରିବାକୁ, କଠିନ-ତରଳ ଇଣ୍ଟରଫେସ୍ ସମତଳ ହେବା ଆବଶ୍ୟକ |
ପରବର୍ତ୍ତୀ ଆଲୋଚନା ପାଇଁ ଆମକୁ ପରିଦର୍ଶନ କରିବାକୁ ବିଶ୍ world ର ବିଭିନ୍ନ ଗ୍ରାହକଙ୍କୁ ସ୍ୱାଗତ!
https://www.semi-cera.com/
https://www.semi-cera.com/tac-coating-monocrystal-growth-parts/
https://www.semi-cera.com/cvd-coating/
ପୋଷ୍ଟ ସମୟ: ଜୁଲାଇ -24-2024 |