ଗୋଟିଏ ସମୀକ୍ଷା
ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ଉତ୍ପାଦନ ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ, ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ହେଉଛି ମୂଳ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଯାହା ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ର ଏକୀକରଣ ସ୍ତର ନିର୍ଣ୍ଣୟ କରେ | ଏହି ପ୍ରକ୍ରିୟାର କାର୍ଯ୍ୟ ହେଉଛି ସର୍କିଟ ଗ୍ରାଫିକ୍ ସୂଚନାକୁ ମାସ୍କରୁ (ମାସ୍କ ମଧ୍ୟ କୁହାଯାଏ) ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ସାମଗ୍ରୀ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟକୁ ବିଶ୍ୱସ୍ତ ଭାବରେ ପଠାଇବା ଏବଂ ସ୍ଥାନାନ୍ତର କରିବା |
ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ପ୍ରକ୍ରିୟାର ମ basic ଳିକ ନୀତି ହେଉଛି ମାସ୍କରେ ସର୍କିଟ୍ ପ୍ୟାଟର୍ ରେକର୍ଡ କରିବା ପାଇଁ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ପୃଷ୍ଠରେ ଆବୃତ ଫୋଟୋରେଷ୍ଟିକର ଫୋଟୋକେମିକାଲ୍ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାକୁ ବ୍ୟବହାର କରିବା, ଯାହା ଦ୍ the ାରା ଡିଜାଇନ୍ ରୁ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ କୁ ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ପ୍ୟାଟର୍ ସ୍ଥାନାନ୍ତର କରିବାର ଉଦ୍ଦେଶ୍ୟ ହାସଲ କରାଯାଏ |
ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫିର ମ basic ଳିକ ପ୍ରକ୍ରିୟା |:
ପ୍ରଥମେ, ଏକ ଆବରଣ ମେସିନ୍ ବ୍ୟବହାର କରି ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ପୃଷ୍ଠରେ ଫଟୋଗ୍ରାଫିଷ୍ଟ ପ୍ରୟୋଗ କରାଯାଏ;
ତାପରେ, ଫୋଟୋରେଟିଷ୍ଟ ସହିତ ଆବୃତ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଉନ୍ମୋଚନ କରିବା ପାଇଁ ଏକ ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ, ଏବଂ ଫୋଟୋକେମିକାଲ୍ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଯନ୍ତ୍ରକ the ଶଳ ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ ଦ୍ mitted ାରା ପଠାଯାଇଥିବା ମାସ୍କ ପ୍ୟାଟର୍ ସୂଚନାକୁ ରେକର୍ଡ କରିବା ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ, ମାସ୍କ ପ୍ୟାଟର୍ ର ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଉପରେ ବିଶ୍ୱସ୍ତତା ଟ୍ରାନ୍ସମିସନ୍, ଟ୍ରାନ୍ସଫର ଏବଂ ନକଲ;
ପରିଶେଷରେ, ଫଟୋଗ୍ରାଫରଙ୍କୁ ଅପସାରଣ (କିମ୍ବା ରଖିବା) ପାଇଁ ଏକ୍ସପୋଜର ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ବିକାଶ ପାଇଁ ଏକ ଡେଭଲପର୍ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ ଯାହା ଏକ୍ସପୋଜର ପରେ ଏକ ଫୋଟୋକେମିକାଲ୍ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଦେଇଥାଏ |
ଦ୍ୱିତୀୟ ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ପ୍ରକ୍ରିୟା |
ମାସ୍କରେ ଡିଜାଇନ୍ ହୋଇଥିବା ସର୍କିଟ୍ ପ୍ୟାଟର୍ କୁ ସିଲିକନ୍ ୱେଫର୍ କୁ ସ୍ଥାନାନ୍ତର କରିବାକୁ, ପ୍ରଥମେ ଏକ ଏକ୍ସପୋଜର ପ୍ରକ୍ରିୟା ମାଧ୍ୟମରେ ସ୍ଥାନାନ୍ତର ହେବା ଆବଶ୍ୟକ, ଏବଂ ତା’ପରେ ସିଲିକନ୍ ପ୍ୟାଟର୍ ଏକ ଇଚିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟା ମାଧ୍ୟମରେ ପ୍ରାପ୍ତ ହେବା ଆବଶ୍ୟକ |
ଯେହେତୁ ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ପ୍ରକ୍ରିୟା କ୍ଷେତ୍ରର ଆଲୋକ ଏକ ହଳଦିଆ ଆଲୋକ ଉତ୍ସ ବ୍ୟବହାର କରେ ଯେଉଁଥିରେ ଫଟୋସେନସିଟିଭ୍ ସାମଗ୍ରୀ ସମ୍ବେଦନଶୀଳ, ଏହାକୁ ହଳଦିଆ ଆଲୋକ କ୍ଷେତ୍ର ମଧ୍ୟ କୁହାଯାଏ |
ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ପ୍ରଥମେ ମୁଦ୍ରଣ ଶିଳ୍ପରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା ଏବଂ PCB ଉତ୍ପାଦନ ପାଇଁ ଏହା ମୁଖ୍ୟ ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ଥିଲା | 1950 ଦଶକରୁ, ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ଧୀରେ ଧୀରେ ଆଇସି ଉତ୍ପାଦନରେ ପ୍ୟାଟର୍ ଟ୍ରାନ୍ସଫର୍ ପାଇଁ ମୁଖ୍ୟ ସ୍ରୋତ ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ହୋଇପାରିଛି |
ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ପ୍ରକ୍ରିୟାର ମୁଖ୍ୟ ସୂଚକଗୁଡ଼ିକରେ ରେଜୋଲୁସନ, ସମ୍ବେଦନଶୀଳତା, ଓଭରଲେ ସଠିକତା, ତ୍ରୁଟି ହାର ଇତ୍ୟାଦି ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ |
ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ସବୁଠାରୁ ଗୁରୁତ୍ material ପୂର୍ଣ୍ଣ ପଦାର୍ଥ ହେଉଛି ଫୋଟୋରେସିଷ୍ଟ, ଯାହା ଏକ ଫଟୋସେନସିଟିଭ୍ ପଦାର୍ଥ | ଯେହେତୁ ଫଟୋଗ୍ରାଫର ସମ୍ବେଦନଶୀଳତା ଆଲୋକ ଉତ୍ସର ତରଙ୍ଗଦ eng ର୍ଘ୍ୟ ଉପରେ ନିର୍ଭର କରେ, ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ପ୍ରକ୍ରିୟା ପାଇଁ g / i ଲାଇନ, 248nm KrF, ଏବଂ 193nm ArF ପାଇଁ ବିଭିନ୍ନ ଫୋଟୋରେସିଷ୍ଟ ସାମଗ୍ରୀ ଆବଶ୍ୟକ |
ଏକ ସାଧାରଣ ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ପ୍ରକ୍ରିୟାର ମୁଖ୍ୟ ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ପାଞ୍ଚଟି ପଦକ୍ଷେପ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ |:
-ବେସ୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ପ୍ରସ୍ତୁତି;
- ଫଟୋଗ୍ରାଫିଷ୍ଟ ଏବଂ ସଫ୍ଟ ବେକ୍ ପ୍ରୟୋଗ କରନ୍ତୁ;
- ଆଲାଇନ୍ମେଣ୍ଟ, ଏକ୍ସପୋଜର ଏବଂ ଏକ୍ସପୋଜର ପରବର୍ତ୍ତୀ ବେକିଂ;
- ହାର୍ଡ ଫିଲ୍ମର ବିକାଶ;
- ବିକାଶ ଚିହ୍ନଟ |
(1)ମୂଳ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ପ୍ରସ୍ତୁତି |: ମୁଖ୍ୟତ cleaning ସଫା କରିବା ଏବଂ ଡିହାଇଡ୍ରେସନ୍ | ଯେହେତୁ ଯେକ any ଣସି ପ୍ରଦୂଷକ ଫଟୋଗ୍ରାଫିଷ୍ଟ ଏବଂ ୱେଫର୍ ମଧ୍ୟରେ ଥିବା ଆଡିଶିନ୍କୁ ଦୁର୍ବଳ କରିଦେବ, ପୁଙ୍ଖାନୁପୁଙ୍ଖ ସଫା କରିବା ଦ୍ୱାରା ୱେଫର୍ ଏବଂ ଫଟୋଗ୍ରାଫିଷ୍ଟ ମଧ୍ୟରେ ଥିବା ଆଡିଶିନ୍ ଉନ୍ନତ ହୋଇପାରିବ |
(୨)ଫଟୋଗ୍ରାଫିଷ୍ଟ ଆବରଣ |: ସିଲିକନ୍ ୱେଫର୍ ଘୂର୍ଣ୍ଣନ କରି ଏହା ହାସଲ ହୁଏ | ବିଭିନ୍ନ ଫଟୋଗ୍ରାଫିଷ୍ଟମାନେ ଘୂର୍ଣ୍ଣନ ଗତି, ଫୋଟୋରେସିଷ୍ଟ ଘନତା ଏବଂ ତାପମାତ୍ରା ସହିତ ବିଭିନ୍ନ ଆବରଣ ପ୍ରକ୍ରିୟା ପାରାମିଟର ଆବଶ୍ୟକ କରନ୍ତି |
ସଫ୍ଟ ବେକିଂ: ବେକିଂ ଫୋଟୋରେସିଷ୍ଟ ଏବଂ ସିଲିକନ୍ ୱେଫର୍ ମଧ୍ୟରେ ଥିବା ଆଡିଶିନ୍କୁ ଉନ୍ନତ କରିପାରିବ, ଏବଂ ଫୋଟୋରେସିଷ୍ଟର ଘନତାର ସମାନତା ମଧ୍ୟ ପରବର୍ତ୍ତୀ ଇଚିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟାର ଜ୍ୟାମିତିକ ଆକାରର ସଠିକ୍ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ ପାଇଁ ଲାଭଦାୟକ |
(3)ଆଲାଇନମେଣ୍ଟ୍ ଏବଂ ଏକ୍ସପୋଜର୍: ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ଆଲାଇନ୍ମେଣ୍ଟ ଏବଂ ଏକ୍ସପୋଜର ହେଉଛି ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ପଦକ୍ଷେପ | ସେମାନେ ମାସ୍କ ପ୍ୟାଟର୍ କୁ ୱେଫର୍ (କିମ୍ବା ଆଗ ସ୍ତରର ପ୍ୟାଟର୍) ରେ ଥିବା ପ୍ୟାଟର୍ ସହିତ ଆଲାଇନ୍ କରିବା, ଏବଂ ତାପରେ ଏହାକୁ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ଆଲୋକ ସହିତ ବିକିରଣ କରିବା ବିଷୟରେ ସୂଚିତ କରନ୍ତି | ହାଲୁକା ଶକ୍ତି ଫଟୋଗ୍ରାଫିରେ ଥିବା ଫଟୋସେନସିଟିଭ୍ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକୁ ସକ୍ରିୟ କରିଥାଏ, ଯାହା ଦ୍ the ାରା ମାସ୍କ ପ୍ୟାଟର୍ ଫୋଟୋରେସିଷ୍ଟକୁ ସ୍ଥାନାନ୍ତରିତ ହୁଏ |
ଆଲାଇନ୍ମେଣ୍ଟ ଏବଂ ଏକ୍ସପୋଜର ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ଯନ୍ତ୍ରପାତି ହେଉଛି ଏକ ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍, ଯାହା ସମଗ୍ର ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ଉତ୍ପାଦନ ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ସବୁଠାରୁ ମହଙ୍ଗା ଏକକ ଉପକରଣ ଉପକରଣ | ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନର ବ technical ଷୟିକ ସ୍ତର ସମଗ୍ର ଉତ୍ପାଦନ ଲାଇନର ଅଗ୍ରଗତିର ସ୍ତରକୁ ଦର୍ଶାଏ |
ଏକ୍ସପୋଜର ପରବର୍ତ୍ତୀ ବେକିଂ: ଏକ୍ସପୋଜର ପରେ ଏକ ସ୍ୱଳ୍ପ ବେକିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟାକୁ ବୁ refers ାଏ, ଯାହା ଗଭୀର ଅଲଟ୍ରାଭାଇଓଲେଟ୍ ଫୋଟୋରେଷ୍ଟ ଏବଂ ପାରମ୍ପାରିକ ଆଇ-ଲାଇନ ଫଟୋଗ୍ରାଫର ଅପେକ୍ଷା ଭିନ୍ନ ପ୍ରଭାବ ପକାଇଥାଏ |
ଗଭୀର ଅଲଟ୍ରାଭାଇଓଲେଟ୍ ଫୋଟୋରେଷ୍ଟ ପାଇଁ, ପୋଷ୍ଟ-ଏକ୍ସପୋଜର ବେକିଂ ଫୋଟୋରେଷ୍ଟରେ ଥିବା ପ୍ରତିରକ୍ଷା ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକୁ ଅପସାରଣ କରିଥାଏ, ଯାହା ଫୋଟୋରେଷ୍ଟକୁ ଡେଭଲପର୍ରେ ତରଳି ଯିବାକୁ ଦେଇଥାଏ, ତେଣୁ ଏକ୍ସପୋଜର ପରେ ବେକିଂ ଆବଶ୍ୟକ;
ପାରମ୍ପାରିକ ଆଇ-ଲାଇନ୍ ଫଟୋଗ୍ରାଫିଷ୍ଟମାନଙ୍କ ପାଇଁ, ଏକ୍ସପୋଜର ପରବର୍ତ୍ତୀ ବେକିଂ ଫୋଟୋରେଷ୍ଟର ଆଡିଶିନ୍କୁ ଉନ୍ନତ କରିପାରିବ ଏବଂ ଛିଡା ହୋଇଥିବା ତରଙ୍ଗକୁ ହ୍ରାସ କରିପାରିବ (ଛିଡା ହୋଇଥିବା ତରଙ୍ଗ ଫଟୋଗ୍ରାଫର ଧାରାର ମର୍ଫୋଲୋଜି ଉପରେ ପ୍ରତିକୂଳ ପ୍ରଭାବ ପକାଇବ) |
(4)ହାର୍ଡ ଫିଲ୍ମର ବିକାଶ: ଏକ୍ସପୋଜର ପରେ ଫୋଟୋରେଷ୍ଟ (ପଜିଟିଭ ଫୋଟୋରେସିଷ୍ଟ) ର ଦ୍ରବୀଭୂତ ଅଂଶକୁ ତରଳାଇବା ପାଇଁ ଡେଭଲପର୍ ବ୍ୟବହାର କରି, ଏବଂ ଫୋଟୋରେସିଷ୍ଟ ପ୍ୟାଟର୍ ସହିତ ମାସ୍କ ପ୍ୟାଟର୍ ସଠିକ୍ ଭାବରେ ପ୍ରଦର୍ଶନ କରନ୍ତୁ |
ବିକାଶ ପ୍ରକ୍ରିୟାର ମୁଖ୍ୟ ପାରାମିଟରଗୁଡିକ ବିକାଶର ତାପମାତ୍ରା ଏବଂ ସମୟ, ଡେଭଲପର୍ ଡୋଜ୍ ଏବଂ ଏକାଗ୍ରତା, ସଫେଇ ଇତ୍ୟାଦି ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ କରେ ବିକାଶରେ ସମ୍ପୃକ୍ତ ପାରାମିଟରଗୁଡିକ ସଜାଡିବା ଦ୍ the ାରା, ଫୋଟୋରେଷ୍ଟର ଉନ୍ମୋଚିତ ଏବଂ ଅବିସ୍ମରଣୀୟ ଅଂଶଗୁଡିକ ମଧ୍ୟରେ ବିଲୋପ ହାରରେ ପାର୍ଥକ୍ୟ ବ increased ିପାରେ | ଇଚ୍ଛାକୃତ ବିକାଶ ପ୍ରଭାବ ପାଇବା
କଠିନତାକୁ ବେକିଂ ବେକିଂ ଭାବରେ ମଧ୍ୟ କୁହାଯାଏ, ଯାହାକି ଗରମ ଏବଂ ବାଷ୍ପୀଭୂତ ହୋଇ ବିକଶିତ ଫଟୋଗ୍ରାଫିରେ ଅବଶିଷ୍ଟ ଦ୍ରବଣକାରୀ, ବିକାଶକାରୀ, ଜଳ ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ଅନାବଶ୍ୟକ ଅବଶିଷ୍ଟ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକୁ ଅପସାରଣ କରିବାର ପ୍ରକ୍ରିୟା ଅଟେ, ଯାହାଫଳରେ ସିଲିକନ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ସହିତ ଫୋଟୋରେଷ୍ଟର ଆଡିଶିନ୍ ଉନ୍ନତ ହେବ | ଫୋଟୋରେଷ୍ଟର ଏଚିଂ ପ୍ରତିରୋଧ |
ବିଭିନ୍ନ ଫଟୋଗ୍ରାଫିଷ୍ଟ ଏବଂ କଠିନ ପ୍ରଣାଳୀ ଉପରେ ନିର୍ଭର କରି କଠିନ ପ୍ରକ୍ରିୟାର ତାପମାତ୍ରା ଭିନ୍ନ ହୋଇଥାଏ | ଏହାର ମୂଳ ଉଦ୍ଦେଶ୍ୟ ହେଉଛି ଫୋଟୋରେସିଷ୍ଟ pattern ାଞ୍ଚା ବିକୃତ ହୁଏ ନାହିଁ ଏବଂ ଫଟୋଗ୍ରାଫରଙ୍କୁ ଯଥେଷ୍ଟ ପରିଶ୍ରମ କରାଯିବା ଉଚିତ |
(5)ବିକାଶ ଯାଞ୍ଚ: ବିକାଶ ପରେ ଫଟୋଗ୍ରାଫିଷ୍ଟ pattern ାଞ୍ଚାରେ ଥିବା ତ୍ରୁଟିଗୁଡିକ ଯାଞ୍ଚ କରିବା | ସାଧାରଣତ ,, ବିକାଶ ପରେ ଚିପ୍ ପ୍ୟାଟର୍ କୁ ସ୍ୱୟଂଚାଳିତ ଭାବରେ ସ୍କାନ୍ କରିବା ଏବଂ ଏହାକୁ ପୂର୍ବ-ସଂରକ୍ଷିତ ତ୍ରୁଟିମୁକ୍ତ ମାନକ pattern ାଞ୍ଚା ସହିତ ତୁଳନା କରିବା ପାଇଁ ପ୍ରତିଛବି ଚିହ୍ନିବା ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ | ଯଦି କ difference ଣସି ପାର୍ଥକ୍ୟ ମିଳେ, ଏହା ତ୍ରୁଟିପୂର୍ଣ୍ଣ ବୋଲି ଧରାଯାଏ |
ଯଦି ତ୍ରୁଟି ସଂଖ୍ୟା ଏକ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ମୂଲ୍ୟ ଅତିକ୍ରମ କରେ, ସିଲିକନ୍ ୱେଫର୍ ବିକାଶ ପରୀକ୍ଷଣରେ ବିଫଳ ହୋଇଛି ବୋଲି ବିଚାର କରାଯାଏ ଏବଂ ଉପଯୁକ୍ତ ଭାବରେ ସ୍କ୍ରାପ୍ କିମ୍ବା ପୁନ work କାର୍ଯ୍ୟ କରାଯାଇପାରେ |
ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ଉତ୍ପାଦନ ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ, ଅଧିକାଂଶ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଅଦୃଶ୍ୟ ଅଟେ, ଏବଂ ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ହେଉଛି ଖୁବ୍ କମ୍ ପ୍ରକ୍ରିୟା ମଧ୍ୟରୁ ଗୋଟିଏ ଯାହାକି ପୁନ work କାର୍ଯ୍ୟ ହୋଇପାରିବ |
ତିନୋଟି ଫୋଟୋମାସ୍କ ଏବଂ ଫଟୋଗ୍ରାଫିଷ୍ଟ ସାମଗ୍ରୀ |
3.1 ଫୋଟୋମାସ୍କ |
ଏକ ଫୋଟୋମାସ୍କ, ଯାହା ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମାସ୍କ ଭାବରେ ମଧ୍ୟ ଜଣାଶୁଣା, ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ୱେଫର୍ ଉତ୍ପାଦନର ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ବ୍ୟବହୃତ ଏକ ମାଷ୍ଟର |
ଫୋଟୋମାସ୍କ ଉତ୍ପାଦନ ପ୍ରକ୍ରିୟା ହେଉଛି ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ଡିଜାଇନ୍ ଇଞ୍ଜିନିୟର୍ମାନଙ୍କ ଦ୍ୱାରା ଡିଜାଇନ୍ ହୋଇଥିବା ୱେଫର୍ ଉତ୍ପାଦନ ପାଇଁ ଆବଶ୍ୟକ ମୂଳ ଲେଆଉଟ୍ ତଥ୍ୟକୁ ଏକ ଡାଟା ଫର୍ମାଟରେ ରୂପାନ୍ତର କରିବା ଯାହାକି ମାସ୍କ ଡାଟା ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ମାଧ୍ୟମରେ ଲେଜର ପ୍ୟାଟର୍ ଜେନେରେଟର କିମ୍ବା ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ବିମ୍ ଏକ୍ସପୋଜର ଉପକରଣ ଦ୍ୱାରା ଚିହ୍ନିତ ହୋଇପାରିବ | ଫୋଟୋମାସ୍କ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ସାମଗ୍ରୀ ଉପରେ ଉପରୋକ୍ତ ଉପକରଣଗୁଡ଼ିକ ଫଟୋସେନସିଟିଭ୍ ପଦାର୍ଥ ସହିତ ଆବୃତ; ତାପରେ ଏହା ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ସାମଗ୍ରୀ ଉପରେ pattern ାଞ୍ଚା ଠିକ୍ କରିବା ପାଇଁ ବିକାଶ ଏବଂ ଇଚିଂ ଭଳି ଏକ ପ୍ରକ୍ରିୟା ମାଧ୍ୟମରେ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ହୁଏ | ଶେଷରେ, ଏହାକୁ ଯାଞ୍ଚ, ମରାମତି, ସଫା, ଏବଂ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର-ଲାମିନ୍ଟେଡ୍ ଏକ ମାସ୍କ ଉତ୍ପାଦ ଗଠନ କରିବା ପାଇଁ ଏବଂ ବ୍ୟବହାର ପାଇଁ ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ନିର୍ମାତାଙ୍କୁ ପ୍ରଦାନ କରାଯାଏ |
2.2 ଫଟୋଗ୍ରାଫର |
ଫଟୋଗ୍ରାଫିଷ୍ଟ, ଫୋଟୋରେସିଷ୍ଟ ଭାବରେ ମଧ୍ୟ ଜଣାଶୁଣା, ଏକ ଫଟୋସେନସିଟିଭ୍ ପଦାର୍ଥ | ଏଥିରେ ଥିବା ଫଟୋସେନସିଟିଭ୍ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକ ଆଲୋକର ବିକିରଣରେ ରାସାୟନିକ ପରିବର୍ତ୍ତନ ଅତିକ୍ରମ କରିବ, ଯାହାଦ୍ୱାରା ବିଲୋପ ହାରରେ ପରିବର୍ତ୍ତନ ଆସିବ | ଏହାର ମୁଖ୍ୟ କାର୍ଯ୍ୟ ହେଉଛି ମାସ୍କରେ ଥିବା pattern ାଞ୍ଚାକୁ ୱେଫର୍ ପରି ଏକ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ କୁ ସ୍ଥାନାନ୍ତର କରିବା |
ଫଟୋଗ୍ରାଫିଷ୍ଟର କାର୍ଯ୍ୟର ନୀତି: ପ୍ରଥମେ, ଫୋଟୋରେସିଷ୍ଟ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଉପରେ ଆବୃତ ହୋଇ ଦ୍ରବଣକୁ ବାହାର କରିବା ପାଇଁ ପୂର୍ବରୁ ପ୍ରସ୍ତୁତ |
ଦ୍ୱିତୀୟତ ,, ମାସ୍କ ଆଲୋକର ସଂସ୍ପର୍ଶରେ ଆସିଥାଏ, ଯାହା ଉନ୍ମୋଚିତ ଅଂଶରେ ଥିବା ଫଟୋସେନସିଟିଭ୍ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକୁ ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଦେଇଥାଏ;
ତାପରେ, ଏକ ଏକ୍ସପୋଜର ପରବର୍ତ୍ତୀ ବେକ୍ କରାଯାଏ;
ଶେଷରେ, ଫଟୋଗ୍ରାଫିଷ୍ଟ ଆଂଶିକ ବିକାଶ ମାଧ୍ୟମରେ ବିସର୍ଜନ ହୁଏ (ସକରାତ୍ମକ ଫୋଟୋରେଷ୍ଟ ପାଇଁ, ଉନ୍ମୋଚିତ ଅଞ୍ଚଳ ବିସର୍ଜନ ହୁଏ; ନକାରାତ୍ମକ ଫୋଟୋରେଷ୍ଟ ପାଇଁ, ଅପ୍ରତ୍ୟାଶିତ ଅଞ୍ଚଳ ବିସର୍ଜନ ହୁଏ), ଯାହା ଦ୍ the ାରା ମାସ୍କରୁ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍କୁ ଏକୀକୃତ ସର୍କିଟ୍ ପ୍ୟାଟର୍ ସ୍ଥାନାନ୍ତର ହୁଏ |
ଫଟୋଗ୍ରାଫିଷ୍ଟର ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକରେ ମୁଖ୍ୟତ film ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଗଠନକାରୀ ରଜନୀ, ଫଟୋସେନସିଟିଭ୍ ଉପାଦାନ, ଟ୍ରେସ୍ ଆଡିଭେଟ୍ସ ଏବଂ ଦ୍ରବଣକାରୀ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ |
ସେଥିମଧ୍ୟରୁ, ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଗଠନକାରୀ ରଜନୀ ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଗୁଣ ଏବଂ ଇଚିଂ ପ୍ରତିରୋଧ ଯୋଗାଇବା ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ | ଫଟୋସେନସିଟିଭ୍ ଉପାଦାନ ଆଲୋକ ତଳେ ରାସାୟନିକ ପରିବର୍ତ୍ତନ କରେ, ଯାହା ବିଲୋପ ହାରରେ ପରିବର୍ତ୍ତନ ଆଣେ;
ଟ୍ରେସ୍ ଆଡିଭେଟ୍ସରେ ରଙ୍ଗ, ସାନ୍ଦ୍ରତା ବୃଦ୍ଧିକାରୀ ଇତ୍ୟାଦି ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ, ଯାହା ଫୋଟୋରେସିଷ୍ଟର କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତାକୁ ଉନ୍ନତ କରିବାରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ | ଉପାଦାନଗୁଡିକ ତରଳାଇବା ଏବଂ ସମାନ ଭାବରେ ମିଶ୍ରଣ କରିବା ପାଇଁ ଦ୍ରବଣଗୁଡିକ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |
ଫୋଟୋକେମିକାଲ୍ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ପ୍ରଣାଳୀ ଅନୁଯାୟୀ ସମ୍ପ୍ରତି ଫଟୋଗ୍ରାଫିଷ୍ଟମାନଙ୍କୁ ପାରମ୍ପାରିକ ଫଟୋଗ୍ରାଫିଷ୍ଟ ଏବଂ ରାସାୟନିକ ଭାବରେ ବର୍ଦ୍ଧିତ ଫଟୋଗ୍ରାଫିରେ ବିଭକ୍ତ କରାଯାଇପାରେ ଏବଂ ଅଲଟ୍ରାଭାଇଓଲେଟ୍, ଗଭୀର ଅଲଟ୍ରାଭାଇଓଲେଟ୍, ଚରମ ଅଲଟ୍ରାଭାଇଓଲେଟ୍, ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ବିମ୍, ଆୟନ ବିମ୍ ଏବଂ ଏକ୍ସ-ରେ ଫଟୋଗ୍ରାଫିରେ ମଧ୍ୟ ବିଭକ୍ତ କରାଯାଇପାରେ | ଫଟୋସେନସିଟିଭିଟି ତରଙ୍ଗଦ eng ର୍ଘ୍ୟ |
ଚାରୋଟି ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ଉପକରଣ |
ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ଯୋଗାଯୋଗ / ନିକଟତର ଲିଥୋଗ୍ରାଫି, ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ପ୍ରୋଜେକସନ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି, ଷ୍ଟେପ୍ ଏବଂ ପୁନରାବୃତ୍ତି ଲିଥୋଗ୍ରାଫି, ସ୍କାନିଂ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି, ବୁଡ ପକାଇବା ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ଏବଂ EUV ଲିଥୋଗ୍ରାଫିର ବିକାଶ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଦେଇ ଗତି କରିଛି |
4.1 ଯୋଗାଯୋଗ / ନିକଟତର ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ |
ଯୋଗାଯୋଗ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ଟେକ୍ନୋଲୋଜି 1960 ଦଶକରେ ଦେଖା ଦେଇଥିଲା ଏବଂ 1970 ଦଶକରେ ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା | କ୍ଷୁଦ୍ର-ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ଯୁଗରେ ଏହା ମୁଖ୍ୟ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ପଦ୍ଧତି ଥିଲା ଏବଂ ମୁଖ୍ୟତ 5 5μm ରୁ ଅଧିକ ବ feature ଶିଷ୍ଟ୍ୟ ଆକାର ବିଶିଷ୍ଟ ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ଉତ୍ପାଦନ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା |
ଏକ ଯୋଗାଯୋଗ / ନିକଟତର ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନରେ, ୱେଫର୍ ସାଧାରଣତ a ଏକ ମାନୁଆଲ ନିୟନ୍ତ୍ରିତ ଭୂସମାନ୍ତର ଅବସ୍ଥାରେ ଏବଂ ଘୂର୍ଣ୍ଣନ କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷେତ୍ରରେ ରଖାଯାଇଥାଏ | ମାସ୍କ ଏବଂ ୱେଫରର ସ୍ଥିତିକୁ ଏକାସାଙ୍ଗରେ ଦେଖିବା ପାଇଁ ଅପରେଟର୍ ଏକ ଭିନ୍ନ ଫିଲ୍ଡ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପ୍ ବ୍ୟବହାର କରେ ଏବଂ ମାସ୍କ ଏବଂ ୱେଫର୍ ଆଲାଇନ୍ କରିବା ପାଇଁ ୱର୍କଟେବଲ୍ ସ୍ଥିତିକୁ ମାନୁଆଲୀ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ କରେ | ୱେଫର୍ ଏବଂ ମାସ୍କ ଆଲାଇନ୍ ହେବା ପରେ ଦୁହେଁ ଏକାଠି ଦବାଇବେ ଯାହା ଦ୍ the ାରା ମାସ୍କ ୱେଫର୍ ପୃଷ୍ଠରେ ଥିବା ଫୋଟୋରେଷ୍ଟ ସହିତ ସିଧାସଳଖ ଯୋଗାଯୋଗରେ ରହିବ |
ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପ୍ ଉଦ୍ଦେଶ୍ୟ ଅପସାରଣ କରିବା ପରେ, ଚାପିତ ୱେଫର୍ ଏବଂ ମାସ୍କ ଏକ୍ସପୋଜର ଟେବୁଲକୁ ସ୍ଥାନାନ୍ତରିତ ହୁଏ | ମର୍କୁର ଲ୍ୟାମ୍ପ ଦ୍ୱାରା ନିର୍ଗତ ଆଲୋକ ଏକ ଲେନ୍ସ ମାଧ୍ୟମରେ ମାସ୍କ ସହିତ ସମାନ୍ତରାଳ | ଯେହେତୁ ମାସ୍କ ୱେଫରରେ ଥିବା ଫୋଟୋରେଷ୍ଟ ସ୍ତର ସହିତ ସିଧାସଳଖ ଯୋଗାଯୋଗରେ ଅଛି, ମାସ୍କ ପ୍ୟାଟର୍ ଏକ୍ସପୋଜର ପରେ 1: 1 ଅନୁପାତରେ ଫୋଟୋରେସିଷ୍ଟ ସ୍ତରକୁ ସ୍ଥାନାନ୍ତରିତ |
ଯୋଗାଯୋଗ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ଉପକରଣ ହେଉଛି ସରଳ ଏବଂ ସବୁଠାରୁ ଅର୍ଥନ opt ତିକ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ଉପକରଣ, ଏବଂ ସବ୍-ମାଇକ୍ରୋନ୍ ବ feature ଶିଷ୍ଟ୍ୟ ଆକାରର ଗ୍ରାଫିକ୍ସର ଏକ୍ସପୋଜର ହାସଲ କରିପାରିବ, ତେଣୁ ଏହା ଏପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଛୋଟ-ବ୍ୟାଚ୍ ଉତ୍ପାଦ ଉତ୍ପାଦନ ଏବଂ ଲାବୋରେଟୋରୀ ଅନୁସନ୍ଧାନରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ | ବୃହତ-ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ଉତ୍ପାଦନରେ, ମାସ୍କ ଏବଂ ୱେଫର୍ ମଧ୍ୟରେ ସିଧାସଳଖ ଯୋଗାଯୋଗ ହେତୁ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ଖର୍ଚ୍ଚର ବୃଦ୍ଧିକୁ ଏଡାଇବା ପାଇଁ ନିକଟତର ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ପ୍ରବର୍ତ୍ତିତ ହେଲା |
୧ ss ୦ ଦଶକରେ କ୍ଷୁଦ୍ର-ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ଯୁଗ ଏବଂ ମଧ୍ୟମ-ମାପ ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ର ଯୁଗରେ ପ୍ରକ୍ସିମିଟି ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା | କଣ୍ଟାକ୍ଟ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ପରି, ନିକଟତର ଲିଥୋଗ୍ରାଫିରେ ଥିବା ମାସ୍କ ୱେଫରରେ ଥିବା ଫଟୋଗ୍ରାଫିଷ୍ଟଙ୍କ ସହିତ ସିଧାସଳଖ ଯୋଗାଯୋଗରେ ନାହିଁ, କିନ୍ତୁ ନାଇଟ୍ରୋଜେନରେ ଭରପୂର ଫାଙ୍କା ରହିଯାଇଛି | ମାସ୍କ ନାଇଟ୍ରୋଜେନ ଉପରେ ଭାସୁଛି, ଏବଂ ମାସ୍କ ଏବଂ ୱେଫର ମଧ୍ୟରେ ବ୍ୟବଧାନର ଆକାର ନାଇଟ୍ରୋଜେନ ଚାପ ଦ୍ୱାରା ନିର୍ଣ୍ଣୟ କରାଯାଏ |
ଯେହେତୁ ନିକଟସ୍ଥ ଲିଥୋଗ୍ରାଫିରେ ୱେଫର୍ ଏବଂ ମାସ୍କ ମଧ୍ୟରେ କ direct ଣସି ପ୍ରତ୍ୟକ୍ଷ ସମ୍ପର୍କ ନାହିଁ, ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ପ୍ରକ୍ରିୟା ସମୟରେ ଉପସ୍ଥାପିତ ତ୍ରୁଟି ହ୍ରାସ ହୁଏ, ଯାହାଦ୍ୱାରା ମାସ୍କର କ୍ଷତି ହ୍ରାସ ହୁଏ ଏବଂ ୱେଫର୍ ଅମଳରେ ଉନ୍ନତି ହୁଏ | ନିକଟତର ଲିଥୋଗ୍ରାଫିରେ, ୱେଫର୍ ଏବଂ ମାସ୍କ ମଧ୍ୟରେ ବ୍ୟବଧାନ ୱେଫର୍କୁ ଫ୍ରେସେଲ୍ ଡିଫ୍ରାକ୍ସନ୍ ଅଞ୍ଚଳରେ ରଖିଥାଏ | ବିଭାଜନର ଉପସ୍ଥିତି ନିକଟତର ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ଉପକରଣର ରେଜୋଲୁସନ୍ର ପରବର୍ତ୍ତୀ ଉନ୍ନତିକୁ ସୀମିତ କରେ, ତେଣୁ ଏହି ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ମୁଖ୍ୟତ 3 3μm ରୁ ଅଧିକ ବ feature ଶିଷ୍ଟ୍ୟ ଆକାର ବିଶିଷ୍ଟ ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ଉତ୍ପାଦନ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ |
4.2 ଷ୍ଟେପର୍ ଏବଂ ପୁନରାବୃତ୍ତି |
ୱେଫର୍ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ଇତିହାସରେ ଷ୍ଟେପର୍ ହେଉଛି ଏକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ଉପକରଣ, ଯାହା ସବ୍-ମାଇକ୍ରୋନ୍ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ପ୍ରକ୍ରିୟାକୁ ବହୁ ଉତ୍ପାଦନରେ ପ୍ରୋତ୍ସାହିତ କରିଛି | ଷ୍ଟେପର୍ 22mm × 22mm ର ଏକ ସାଧାରଣ ଷ୍ଟାଟିକ୍ ଏକ୍ସପୋଜର୍ ଫିଲ୍ଡ ଏବଂ 5: 1 କିମ୍ବା 4: 1 ହ୍ରାସ ଅନୁପାତ ସହିତ ଏକ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ପ୍ରୋଜେକସନ ଲେନ୍ସ ବ୍ୟବହାର କରେ |
ଷ୍ଟେପ୍-ଏବଂ-ପୁନରାବୃତ୍ତି ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ ସାଧାରଣତ an ଏକ ଏକ୍ସପୋଜର ସବ୍ ସିଷ୍ଟମ୍, ଏକ ୱାର୍କସିପ୍ ଷ୍ଟେଜ୍ ସବ୍ ସିଷ୍ଟମ୍, ଏକ ମାସ୍କ ଷ୍ଟେଜ୍ ସବ୍ ସିଷ୍ଟମ୍, ଏକ ଫୋକସ୍ / ଲେଭେଲିଂ ସବ୍ ସିଷ୍ଟମ୍, ଏକ ଆଲାଇନ୍ମେଣ୍ଟ ସବ୍ ସିଷ୍ଟମ୍, ଏକ ମୁଖ୍ୟ ଫ୍ରେମ୍ ସବ୍ ସିଷ୍ଟମ୍, ୱେଫର୍ ଟ୍ରାନ୍ସଫର ସବ୍ ସିଷ୍ଟମ୍, ମାସ୍କ ଟ୍ରାନ୍ସଫର ସବ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ | , ଏକ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ ସବ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ ଏବଂ ଏକ ସଫ୍ଟୱେର୍ ସବ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ |
ନିମ୍ନଲିଖିତ ଭାବରେ ଏକ ଷ୍ଟେପ୍ ଏବଂ ପୁନରାବୃତ୍ତି ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନର ସାଧାରଣ କାର୍ଯ୍ୟ ପ୍ରକ୍ରିୟା |:
ପ୍ରଥମେ, ଫୋଟୋରେଷ୍ଟ ସହିତ ଆବୃତ ୱେଫର୍ ୱେଫର୍ ଟ୍ରାନ୍ସଫର ସବ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ ବ୍ୟବହାର କରି ୱାର୍କସିପ୍ ଟେବୁଲକୁ ସ୍ଥାନାନ୍ତରିତ ହୁଏ, ଏବଂ ମାସ୍କ ସ୍ଥାନାନ୍ତର ସବ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ ବ୍ୟବହାର କରି ମାସ୍କ ଟେବୁଲକୁ ସ୍ଥାନାନ୍ତରିତ ହୁଏ |
ତାପରେ, ସିଷ୍ଟମ୍ ୱାର୍କସିପ୍ ଷ୍ଟେଜରେ ୱେଫର୍ ଉପରେ ମଲ୍ଟି-ପଏଣ୍ଟ୍ ଉଚ୍ଚତା ମାପ କରିବା ପାଇଁ ଫୋକସିଂ / ଲେଭେଲିଂ ସବ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ ବ୍ୟବହାର କରେ ଯେପରି ୱେଫର୍ ପୃଷ୍ଠର ଉଚ୍ଚତା ଏବଂ ଟିଲ୍ଟ ଆଙ୍ଗଲ୍ ପରି ସୂଚନା ପାଇବାକୁ ହୁଏ, ଯାହା ଦ୍ exp ାରା ଏକ୍ସପୋଜର କ୍ଷେତ୍ର | ୱେଫର୍ ସର୍ବଦା ଏକ୍ସପୋଜର ପ୍ରକ୍ରିୟା ସମୟରେ ପ୍ରୋଜେକସନ ଉଦ୍ଦେଶ୍ୟର ଫୋକାଲ୍ ଗଭୀରତା ମଧ୍ୟରେ ନିୟନ୍ତ୍ରିତ ହୋଇପାରିବ |ପରବର୍ତ୍ତୀ ସମୟରେ, ମାସ୍କ ଏବଂ ୱେଫର୍ ଆଲାଇନ୍ କରିବା ପାଇଁ ସିଷ୍ଟମ୍ ଆଲାଇନ୍ମେଣ୍ଟ ସବ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ ବ୍ୟବହାର କରେ ଯାହା ଦ୍ the ାରା ଏକ୍ସପୋଜର ପ୍ରକ୍ରିୟା ସମୟରେ ମାସ୍କ ଇମେଜ୍ ଏବଂ ୱେଫର୍ ପ୍ୟାଟର୍ ଟ୍ରାନ୍ସଫରର ସ୍ଥିତିର ସଠିକତା ସର୍ବଦା ଓଭରଲେ ଆବଶ୍ୟକତା ମଧ୍ୟରେ ରହିଥାଏ |
ଶେଷରେ, ପ୍ୟାଟର୍ ଟ୍ରାନ୍ସଫର୍ ଫଙ୍କସନ୍ ହୃଦୟଙ୍ଗମ କରିବାକୁ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ପଥ ଅନୁଯାୟୀ ସମଗ୍ର ୱେଫର୍ ପୃଷ୍ଠର ଷ୍ଟେପ୍ ଏବଂ ଏକ୍ସପୋଜର କ୍ରିୟା ସମାପ୍ତ ହୋଇଛି |
ପରବର୍ତ୍ତୀ ଷ୍ଟେପର୍ ଏବଂ ସ୍କାନର୍ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ ଉପରୋକ୍ତ ମ basic ଳିକ କାର୍ଯ୍ୟ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଉପରେ ଆଧାରିତ, ଷ୍ଟେପ୍ → ସ୍କାନିଂ ଏକ୍ସପୋଜର ଉନ୍ନତି, ଏବଂ ଫୋକସ୍ / ଲେଭେଲିଂ → ଆଲାଇନ୍ମେଣ୍ଟ → ଏକ୍ସପୋଜର ଦ୍ ual ିତୀୟ ପର୍ଯ୍ୟାୟ ମଡେଲରେ ମାପ (ଫୋକସ୍ / ଲେଭେଲିଂ → ଆଲାଇନ୍ମେଣ୍ଟ) ଏବଂ ସ୍କାନିଂ ଉପରେ ଆଧାରିତ | ସମାନ୍ତରାଳ ଭାବରେ ଏକ୍ସପୋଜର୍ |
ଷ୍ଟେପ୍ ଏବଂ ସ୍କାନ୍ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ ସହିତ ତୁଳନା କଲେ ଷ୍ଟେପ୍ ଏବଂ ପୁନରାବୃତ୍ତି ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ ମାସ୍କ ଏବଂ ୱେଫର୍ ର ସିଙ୍କ୍ରୋନସ୍ ରିଭର୍ସ ସ୍କାନିଂ ହାସଲ କରିବା ଆବଶ୍ୟକ କରେ ନାହିଁ, ଏବଂ ସ୍କାନିଂ ମାସ୍କ ଟେବୁଲ୍ ଏବଂ ଏକ ସିଙ୍କ୍ରୋନସ୍ ସ୍କାନିଂ କଣ୍ଟ୍ରୋଲ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ ଆବଶ୍ୟକ କରେ ନାହିଁ | ତେଣୁ, ସଂରଚନା ଅପେକ୍ଷାକୃତ ସରଳ, ମୂଲ୍ୟ ଅପେକ୍ଷାକୃତ କମ୍, ଏବଂ କାର୍ଯ୍ୟ ନିର୍ଭରଯୋଗ୍ୟ ଅଟେ |
ଆଇସି ଟେକ୍ନୋଲୋଜି 0.25μm ପ୍ରବେଶ କରିବା ପରେ, ଏକ୍ସପୋଜର କ୍ଷେତ୍ର ଆକାର ଏବଂ ଏକ୍ସପୋଜର ସମାନତା ସ୍କାନ କରିବାରେ ଷ୍ଟେପ୍ ଏବଂ ସ୍କାନ୍ ଲିଥୋଗ୍ରାଫିର ସୁବିଧା ହେତୁ ଷ୍ଟେପ୍ ଏବଂ ପୁନରାବୃତ୍ତି ଲିଥୋଗ୍ରାଫିର ପ୍ରୟୋଗ ହ୍ରାସ ହେବାକୁ ଲାଗିଲା | ସମ୍ପ୍ରତି, ନିକୋନ୍ ଦ୍ provided ାରା ପ୍ରଦାନ କରାଯାଇଥିବା ଅତ୍ୟାଧୁନିକ ଷ୍ଟେପ୍ ଏବଂ ପୁନରାବୃତ୍ତି ଲିଥୋଗ୍ରାଫିର ଏକ ଷ୍ଟାଟିକ୍ ଏକ୍ସପୋଜର କ୍ଷେତ୍ର ଅଛି ଯାହା ଷ୍ଟେପ୍ ଏବଂ ସ୍କାନ୍ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ପରି ବୃହତ ଅଟେ ଏବଂ ଅତ୍ୟଧିକ ଉତ୍ପାଦନ ଦକ୍ଷତା ସହିତ ଘଣ୍ଟା ପ୍ରତି 200 ରୁ ଅଧିକ ୱାଫର୍ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ କରିପାରିବ | ଏହି ପ୍ରକାର ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ ବର୍ତ୍ତମାନ ମୁଖ୍ୟତ non ଅଣ-ଜଟିଳ ଆଇସି ସ୍ତର ତିଆରି ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |
4.3 ଷ୍ଟେପର୍ ସ୍କାନର୍ |
ଷ୍ଟେପ୍ ଏବଂ ସ୍କାନ୍ ଲିଥୋଗ୍ରାଫିର ପ୍ରୟୋଗ 1990 ଦଶକରେ ଆରମ୍ଭ ହୋଇଥିଲା | ବିଭିନ୍ନ ଏକ୍ସପୋଜର ଆଲୋକ ଉତ୍ସଗୁଡ଼ିକୁ ବିନ୍ୟାସ କରି, ଷ୍ଟେପ୍ ଏବଂ ସ୍କାନ୍ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି 365nm, 248nm, 193nm ବୁଡ ପକାଇବା ଠାରୁ EUV ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ନୋଡକୁ ସମର୍ଥନ କରିପାରିବ | ଷ୍ଟେପ୍ ଏବଂ ପୁନରାବୃତ୍ତି ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ପରି, ଷ୍ଟେପ୍ ଏବଂ ସ୍କାନ୍ ଲିଥୋଗ୍ରାଫିର ଏକକ ଫିଲ୍ଡ ଏକ୍ସପୋଜର ଗତିଶୀଳ ସ୍କାନିଂ ଗ୍ରହଣ କରେ, ଅର୍ଥାତ୍ ମାସ୍କ ପ୍ଲେଟ୍ ୱେଫର୍ ସହିତ ସନ୍ତୁଳିତ ଭାବରେ ସ୍କାନିଂ ଗତିକୁ ସମାପ୍ତ କରେ | ସାମ୍ପ୍ରତିକ ଫିଲ୍ଡ ଏକ୍ସପୋଜର୍ ସମାପ୍ତ ହେବା ପରେ, ୱେଫର୍ ୱାର୍କସିପ୍ ଷ୍ଟେଜ୍ ଦ୍ୱାରା ନିଆଯାଏ ଏବଂ ପରବର୍ତ୍ତୀ ସ୍କାନିଂ ଫିଲ୍ଡ ସ୍ଥିତିକୁ ଯାଇଥାଏ, ଏବଂ ବାରମ୍ବାର ଏକ୍ସପୋଜର ଜାରି ରହିଥାଏ | ଷ୍ଟେପ୍ ଏବଂ ସ୍କାନ୍ ଏକ୍ସପୋଜରକୁ ଏକାଧିକ ଥର ପୁନରାବୃତ୍ତି କରନ୍ତୁ ଯେପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ସମଗ୍ର ୱେଫର୍ ର ସମସ୍ତ କ୍ଷେତ୍ର ଉନ୍ମୋଚିତ ହୁଏ |
ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରକାରର ଆଲୋକ ଉତ୍ସକୁ ବିନ୍ୟାସ କରି (ଯେପରିକି i-line, KrF, ArF), ଷ୍ଟେପର୍-ସ୍କାନର୍ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଫ୍ରଣ୍ଟ-ଏଣ୍ଡ ପ୍ରକ୍ରିୟାର ପ୍ରାୟ ସମସ୍ତ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ନୋଡକୁ ସମର୍ଥନ କରିପାରିବ | ସାଧାରଣ ସିଲିକନ୍-ଆଧାରିତ CMOS ପ୍ରକ୍ରିୟା 0.18μm ନୋଡ୍ ପରଠାରୁ ବହୁ ପରିମାଣରେ ଷ୍ଟେପର୍-ସ୍କାନର୍ ଗ୍ରହଣ କରିଛି | ଅତ୍ୟଧିକ ଅଲ୍ଟ୍ରାଟୋଇଲେଟ୍ (EUV) ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ ବର୍ତ୍ତମାନ 7nm ତଳେ ପ୍ରୋସେସ୍ ନୋଡ୍ ରେ ବ୍ୟବହୃତ ହେଉଥିବା ଷ୍ଟେପର୍-ସ୍କାନିଂ ମଧ୍ୟ ବ୍ୟବହାର କରେ | ଆଂଶିକ ଆଡାପ୍ଟିଭ୍ ମୋଡିଫିକେସନ୍ ପରେ, ଷ୍ଟେପର୍-ସ୍କାନର୍ ଅନେକ ଅଣ-ସିଲିକନ୍-ଆଧାରିତ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଯେପରିକି MEMS, ପାୱାର୍ ଡିଭାଇସ୍ ଏବଂ ଆରଏଫ୍ ଡିଭାଇସ୍ ଗବେଷଣା ଏବଂ ବିକାଶ ଏବଂ ଉତ୍ପାଦନକୁ ସମର୍ଥନ କରିପାରିବ |
ଷ୍ଟେପ୍ ଏବଂ ସ୍କାନ୍ ପ୍ରୋଜେକସନ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନଗୁଡିକର ମୁଖ୍ୟ ଉତ୍ପାଦକମାନେ ASML (ନେଦରଲ୍ୟାଣ୍ଡ), ନିକନ୍ (ଜାପାନ), କାନନ୍ (ଜାପାନ) ଏବଂ SMEE (ଚୀନ୍) ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ କରନ୍ତି | ASML 2001 ରେ ଷ୍ଟେପ୍ ଏବଂ ସ୍କାନ୍ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ ର TWINSCAN ସିରିଜ୍ ଲଞ୍ଚ କଲା | ଏହା ଏକ ଡୁଆଲ୍-ଷ୍ଟେଜ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ ସ୍ଥାପତ୍ୟ ଗ୍ରହଣ କରେ, ଯାହା ଯନ୍ତ୍ରପାତିର ଆଉଟପୁଟ୍ ହାରକୁ ଫଳପ୍ରଦ ଭାବରେ ଉନ୍ନତ କରିପାରିବ ଏବଂ ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହାଇ-ଏଣ୍ଡ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ ହୋଇପାରିଛି |
4.4 ବୁଡ ପକାଇବା ଲିଥୋଗ୍ରାଫି |
ଏହା ରେଏଲି ସୂତ୍ରରୁ ଦେଖାଯାଏ ଯେ, ଯେତେବେଳେ ଏକ୍ସପୋଜର ତରଙ୍ଗଦ eng ର୍ଘ୍ୟ ଅପରିବର୍ତ୍ତିତ ରହେ, ଇମେଜିଙ୍ଗ୍ ରିଜୋଲ୍ୟୁସନ୍ କୁ ଆହୁରି ଉନ୍ନତ କରିବାର ଏକ ପ୍ରଭାବଶାଳୀ ଉପାୟ ହେଉଛି ଇମେଜିଙ୍ଗ୍ ସିଷ୍ଟମର ସାଂଖ୍ୟିକ ଆପେଚର ବୃଦ୍ଧି କରିବା | 45nm ଏବଂ ତଦୁର୍ଦ୍ଧ୍ୱ ଇମେଜିଙ୍ଗ୍ ରିଜୋଲ୍ୟୁସନ୍ ପାଇଁ, ArF ଶୁଖିଲା ଏକ୍ସପୋଜର ପଦ୍ଧତି ଆଉ ଆବଶ୍ୟକତା ପୂରଣ କରିପାରିବ ନାହିଁ (କାରଣ ଏହା 65nm ର ସର୍ବାଧିକ ଇମେଜିଙ୍ଗ୍ ରିଜୋଲ୍ୟୁସନ୍ କୁ ସମର୍ଥନ କରେ), ତେଣୁ ଏକ ବୁଡ ପକାଇବା ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ପଦ୍ଧତି ପ୍ରବର୍ତ୍ତନ କରିବା ଆବଶ୍ୟକ | ପାରମ୍ପାରିକ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ଟେକ୍ନୋଲୋଜିରେ, ଲେନ୍ସ ଏବଂ ଫୋଟୋରେସିଷ୍ଟ ମଧ୍ୟରେ ମାଧ୍ୟମ ବାୟୁ ଥିବାବେଳେ ବୁଡ ପକାଇବା ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ବାୟୁ ମାଧ୍ୟମକୁ ତରଳ ପଦାର୍ଥ ସହିତ ବଦଳାଇଥାଏ (ସାଧାରଣତ ult ଅଲ୍ଟ୍ରାପ୍ୟୁର ଜଳ 1.44 ର ପ୍ରତୀକାତ୍ମକ ସୂଚକାଙ୍କ ସହିତ) |
ବାସ୍ତବରେ, ବୁଡ ପକାଇବା ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ରେଜୋଲୁସନକୁ ଉନ୍ନତ କରିବା ପାଇଁ ଆଲୋକ ତରଳ ମାଧ୍ୟମ ଦେଇ ଯିବା ପରେ ଆଲୋକ ଉତ୍ସର ତରଙ୍ଗଦ eng ର୍ଘ୍ୟର କ୍ଷୁଦ୍ରତାକୁ ବ୍ୟବହାର କରିଥାଏ ଏବଂ କ୍ଷୁଦ୍ରତା ଅନୁପାତ ହେଉଛି ତରଳ ମାଧ୍ୟମର ପ୍ରତୀକାତ୍ମକ ସୂଚକାଙ୍କ | ଯଦିଓ ବୁଡ ପକାଇବା ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ ହେଉଛି ଏକ ପ୍ରକାର ଷ୍ଟେପ୍ ଏବଂ ସ୍କାନ୍ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍, ଏବଂ ଏହାର ଯନ୍ତ୍ରପାତି ସିଷ୍ଟମ ସମାଧାନରେ କ has ଣସି ପରିବର୍ତ୍ତନ ହୋଇନାହିଁ, ଏହା ମୁଖ୍ୟ ଟେକ୍ନୋଲୋଜିର ପ୍ରବର୍ତ୍ତନ ହେତୁ ଆର୍ଏଫ୍ ଷ୍ଟେପ୍ ଏବଂ ସ୍କାନ୍ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନର ଏକ ପରିବର୍ତ୍ତନ ଏବଂ ବିସ୍ତାର ଅଟେ | ବୁଡ଼ ପକାଇବା ପାଇଁ |
ବୁଡ ପକାଇବା ଲିଥୋଗ୍ରାଫିର ସୁବିଧା ହେଉଛି, ସିଷ୍ଟମର ସାଂଖ୍ୟିକ ଆପେଚର ବୃଦ୍ଧି ହେତୁ ଷ୍ଟେପର୍-ସ୍କାନର୍ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନର ଇମେଜିଙ୍ଗ୍ ରିଜୋଲ୍ୟୁସନ୍ କ୍ଷମତା ଉନ୍ନତ ହୋଇଛି, ଯାହା 45nm ତଳେ ଇମେଜିଙ୍ଗ୍ ରିଜୋଲ୍ୟୁସନ୍ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଆବଶ୍ୟକତା ପୂରଣ କରିପାରିବ |
ଯେହେତୁ ବୁଡ ପକାଇବା ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ ଆର୍ଏଫ୍ ଆଲୋକ ଉତ୍ସ ବ୍ୟବହାର କରେ, ପ୍ରକ୍ରିୟାର ନିରନ୍ତରତା ନିଶ୍ଚିତ ହୋଇଛି, ଆଲୋକ ଉତ୍ସ, ଯନ୍ତ୍ରପାତି ଏବଂ ପ୍ରକ୍ରିୟାର R&D ମୂଲ୍ୟ ସଞ୍ଚୟ କରେ | ଏହି ଆଧାରରେ, ଏକାଧିକ ଗ୍ରାଫିକ୍ସ ଏବଂ ଗଣନାକାରୀ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ସହିତ ମିଳିତ ହୋଇ, 22nm ଏବଂ ତଳର ପ୍ରକ୍ରିୟା ନୋଡରେ ବୁଡ ପକାଇବା ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ | EUV ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ ଆନୁଷ୍ଠାନିକ ଭାବରେ ବହୁ ଉତ୍ପାଦନରେ ରଖାଯିବା ପୂର୍ବରୁ, ବୁଡ ପକାଇବା ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା ଏବଂ 7nm ନୋଡର ପ୍ରକ୍ରିୟା ଆବଶ୍ୟକତା ପୂରଣ କରିପାରିବ | ଅବଶ୍ୟ, ବୁଡ ପକାଇବା ତରଳ ପ୍ରବର୍ତ୍ତନ ହେତୁ ଉପକରଣର ଇଞ୍ଜିନିୟରିଂ ଅସୁବିଧା ଯଥେଷ୍ଟ ବୃଦ୍ଧି ପାଇଲା |
ଏହାର ମୁଖ୍ୟ ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟାରେ ବୁଡ ପକାଇବା ତରଳ ଯୋଗାଣ ଏବଂ ପୁନରୁଦ୍ଧାର ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା, ବୁଡ ପକାଇବା ତରଳ କ୍ଷେତ୍ର ରକ୍ଷଣାବେକ୍ଷଣ ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା, ବୁଡ ପକାଇବା ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ପ୍ରଦୂଷଣ ଏବଂ ତ୍ରୁଟି ନିୟନ୍ତ୍ରଣ ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା, ଅଲ୍ଟ୍ରା-ବୃହତ ସାଂଖ୍ୟିକ ଆପେଚର ଇମର୍ସନ୍ ପ୍ରୋଜେକସନ ଲେନ୍ସର ବିକାଶ ଏବଂ ରକ୍ଷଣାବେକ୍ଷଣ, ଏବଂ ବୁଡ ପକାଇବା ଅବସ୍ଥାରେ ଗୁଣାତ୍ମକ ଚିହ୍ନଟ ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ |
ସମ୍ପ୍ରତି, ବାଣିଜ୍ୟିକ ArFi ଷ୍ଟେପ୍ ଏବଂ ସ୍କାନ୍ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ ମୁଖ୍ୟତ two ଦୁଇଟି କମ୍ପାନୀ ଦ୍ୱାରା ପ୍ରଦାନ କରାଯାଇଥାଏ ଯଥା ନେଦରଲ୍ୟାଣ୍ଡର ASML ଏବଂ ଜାପାନର ନିକୋନ୍ | ସେଥିମଧ୍ୟରୁ ଗୋଟିଏ ASML NXT1980 Di ର ମୂଲ୍ୟ ପ୍ରାୟ 80 ନିୟୁତ ୟୁରୋ |
4.4 ଅତ୍ୟଧିକ ଅଲ୍ଟ୍ରାଟୋଇଲେଟ୍ ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ |
ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫିର ରେଜୋଲୁସନରେ ଉନ୍ନତି ଆଣିବା ପାଇଁ, ଏକ୍ସାଇଜର ଆଲୋକ ଉତ୍ସ ଗ୍ରହଣ ହେବା ପରେ ଏକ୍ସପୋଜର ତରଙ୍ଗଦ eng ର୍ଘ୍ୟ ଆହୁରି ଛୋଟ ହୋଇଯାଏ ଏବଂ 10 ରୁ 14 nm ତରଙ୍ଗ ଦ eng ର୍ଘ୍ୟ ସହିତ ଅତ୍ୟଧିକ ଅଲ୍ଟ୍ରା-ବାଇଗଣି ଆଲୋକ ଏକ୍ସପୋଜର ଆଲୋକ ଉତ୍ସ ଭାବରେ ପରିଚିତ ହୁଏ | ଅତ୍ୟଧିକ ଅଲ୍ଟ୍ରାଟୋଇଲେଟ୍ ଆଲୋକର ତରଙ୍ଗଦ th ର୍ଘ୍ୟ ଅତ୍ୟନ୍ତ କ୍ଷୁଦ୍ର, ଏବଂ ପ୍ରତିଫଳିତ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ ଯାହା ସାଧାରଣତ used ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ, ସାଧାରଣତ Mo ମୋ / ସି କିମ୍ବା ମୋ / ବି ଭଳି ବହୁମୁଖୀ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ପ୍ରତିଫଳକ ଗଠିତ |
ସେଥିମଧ୍ୟରୁ, ତରଙ୍ଗଦ eng ର୍ଘ୍ୟ 13.0 ରୁ 13.5nm ମଧ୍ୟରେ ମୋ / ସି ମଲ୍ଟିଲାୟର୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ତତ୍ତ୍ୱିକ ସର୍ବାଧିକ ପ୍ରତିଫଳନ ପ୍ରାୟ 70%, ଏବଂ 11.1nm ର କ୍ଷୁଦ୍ର ତରଙ୍ଗଦ eng ର୍ଘ୍ୟରେ ମୋ / ବି ମଲ୍ଟିଲାୟର୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ତତ୍ତ୍ୱିକ ସର୍ବାଧିକ ପ୍ରତିଫଳନ ପ୍ରାୟ 80% ଅଟେ | ଯଦିଓ ମୋ / ବି ମଲ୍ଟିଲାୟର୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ପ୍ରତିଫଳକଙ୍କ ପ୍ରତିଫଳନ ଅଧିକ, Be ଅତ୍ୟଧିକ ବିଷାକ୍ତ, ତେଣୁ EUV ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ଟେକ୍ନୋଲୋଜିର ବିକାଶ ସମୟରେ ଏହିପରି ସାମଗ୍ରୀ ଉପରେ ଗବେଷଣା ପରିତ୍ୟାଗ କରାଯାଇଥିଲା |ବର୍ତ୍ତମାନର EUV ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ମୋ / ସି ମଲ୍ଟିଲାୟର୍ ଫିଲ୍ମ ବ୍ୟବହାର କରେ ଏବଂ ଏହାର ଏକ୍ସପୋଜର ତରଙ୍ଗଦ eng ର୍ଘ୍ୟ ମଧ୍ୟ 13.5nm ବୋଲି ସ୍ଥିର ହୋଇଛି |
ମୁଖ୍ୟ ସ୍ରୋତ ଚରମ ଅଲଟ୍ରାଭାଇଓଲେଟ୍ ଆଲୋକ ଉତ୍ସ ଲେଜର ଉତ୍ପାଦିତ ପ୍ଲାଜମା (LPP) ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ବ୍ୟବହାର କରେ, ଯାହା ଆଲୋକ ନିର୍ଗତ କରିବା ପାଇଁ ହଟ-ତରଳ ସ୍ନ ପ୍ଲାଜମାକୁ ଉତ୍ତେଜିତ କରିବା ପାଇଁ ଉଚ୍ଚ-ତୀବ୍ରତା ଲେଜର ବ୍ୟବହାର କରେ | ଦୀର୍ଘ ସମୟ ଧରି, ଆଲୋକ ଉତ୍ସର ଶକ୍ତି ଏବଂ ଉପଲବ୍ଧତା EUV ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନଗୁଡିକର କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତାକୁ ପ୍ରତିବନ୍ଧିତ କରିଆସୁଛି | ମାଷ୍ଟର ଓସିଲେଟର ପାୱାର ଏମ୍ପ୍ଲିଫାୟର୍, ଭବିଷ୍ୟବାଣୀକାରୀ ପ୍ଲାଜମା (ପିପି) ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ଏବଂ ଇନ୍-ସିଟ୍ କଲେକ୍ସନ୍ ଦର୍ପଣ ସଫେଇ ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ମାଧ୍ୟମରେ EUV ଆଲୋକ ଉତ୍ସଗୁଡ଼ିକର ଶକ୍ତି ଏବଂ ସ୍ଥିରତା ବହୁ ଉନ୍ନତ ହୋଇଛି |
EUV ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ ମୁଖ୍ୟତ sub ସବ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ ଗୁଡ଼ିକରେ ଗଠିତ ହୋଇଛି ଯେପରିକି ଆଲୋକ ଉତ୍ସ, ଆଲୋକ, ଅବଜେକ୍ଟିଭ୍ ଲେନ୍ସ, ୱାର୍କସିପ୍ ଷ୍ଟେଜ୍, ମାସ୍କ ଷ୍ଟେଜ୍, ୱେଫର୍ ଆଲାଇନ୍ମେଣ୍ଟ, ଫୋକସ୍ / ଲେଭେଲିଂ, ମାସ୍କ ଟ୍ରାନ୍ସମିସନ୍, ୱେଫର୍ ଟ୍ରାନ୍ସମିସନ୍, ଏବଂ ଭାକ୍ୟୁମ୍ ଫ୍ରେମ୍ | ମଲ୍ଟି-ଲେୟାର ଆବୃତ ପ୍ରତିଫଳକକୁ ନେଇ ଗଠିତ ଆଲୋକୀକରଣ ସିଷ୍ଟମ ଦେଇ ଯିବା ପରେ, ଅତ୍ୟଧିକ ଅଲ୍ଟ୍ରା-ବାଇଗଣି ଆଲୋକ ପ୍ରତିଫଳିତ ମାସ୍କରେ ବିକିରଣ କରେ | ମାସ୍କ ଦ୍ refl ାରା ପ୍ରତିଫଳିତ ଆଲୋକ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ସମୁଦାୟ ପ୍ରତିଫଳନ ଇମେଜିଙ୍ଗ୍ ସିଷ୍ଟମରେ ପ୍ରବେଶ କରେ ଏବଂ ପ୍ରତିଫଳକଗୁଡ଼ିକର ଏକ କ୍ରମରେ ଗଠିତ, ଏବଂ ଶେଷରେ ମାସ୍କର ପ୍ରତିଫଳିତ ପ୍ରତିଛବି ଏକ ଶୂନ୍ୟସ୍ଥାନରେ ୱେଫର୍ ପୃଷ୍ଠରେ ପ୍ରୋଜେକ୍ଟ ହୁଏ |
EUV ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନର ଦୃଶ୍ୟର ଏକ୍ସପୋଜର କ୍ଷେତ୍ର ଏବଂ ଇମେଜିଙ୍ଗ୍ କ୍ଷେତ୍ର ଉଭୟ ଆର୍କ ଆକୃତିର ଏବଂ ଆଉଟପୁଟ୍ ହାରରେ ଉନ୍ନତି ଆଣିବା ପାଇଁ ପୂର୍ଣ୍ଣ ୱେଫର୍ ଏକ୍ସପୋଜର୍ ହାସଲ କରିବା ପାଇଁ ଏକ ଷ୍ଟେପ୍-ଷ୍ଟେପ୍ ସ୍କାନିଂ ପଦ୍ଧତି ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ | ASML ର ସର୍ବାଧିକ ଉନ୍ନତ NXE ସିରିଜ୍ EUV ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ ଏକ ତରଙ୍ଗ ଦ eng ର୍ଘ୍ୟ ସହିତ 13.5nm, ଏକ ପ୍ରତିଫଳିତ ମାସ୍କ (6 ° ଓଲିକ୍ ଇନକ୍ସିଡେନ୍ସ), 6-ଦର୍ପଣ ଗଠନ (NA = 0.33) ସହିତ 4x ହ୍ରାସ ପ୍ରତିଫଳିତ ପ୍ରୋଜେକ୍ଟ ଅବଜେକ୍ଟିଭ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ ବ୍ୟବହାର କରେ | 26mm × 33mm ଦୃଶ୍ୟର ସ୍କାନିଂ କ୍ଷେତ୍ର, ଏବଂ ଏକ ଶୂନ୍ୟସ୍ଥାନ ଏକ୍ସପୋଜର ପରିବେଶ |
ବୁଡ ପକାଇବା ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ ତୁଳନାରେ, ଅତ୍ୟଧିକ ଅଲ୍ଟ୍ରା-ବାଇଗଣି ଆଲୋକ ଉତ୍ସ ବ୍ୟବହାର କରି EUV ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନଗୁଡିକର ଏକକ ଏକ୍ସପୋଜର ରିଜୋଲ୍ୟୁସନ୍ ବହୁତ ଉନ୍ନତ ହୋଇଛି, ଯାହା ଉଚ୍ଚ-ବିଭେଦନ ଗ୍ରାଫିକ୍ସ ଗଠନ ପାଇଁ ଏକାଧିକ ଫୋଟୋଲିଥୋଗ୍ରାଫି ପାଇଁ ଆବଶ୍ୟକ ଜଟିଳ ପ୍ରକ୍ରିୟାକୁ ପ୍ରଭାବଶାଳୀ ଭାବରେ ଏଡାଇ ଦେଇପାରେ | ବର୍ତ୍ତମାନ, NXE 3400B ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନର ଏକକ ଏକ୍ସପୋଜର ରେଜୋଲୁସନ 0.33 ର ସାଂଖ୍ୟିକ ଆପେଚର ସହିତ 13nm ରେ ପହଞ୍ଚିଛି ଏବଂ ଆଉଟପୁଟ୍ ହାର 125 ଖଣ୍ଡ / ଘଣ୍ଟାରେ ପହଞ୍ଚିଛି |
ମୋର୍ ଆଇନର ଅଧିକ ବିସ୍ତାରର ଆବଶ୍ୟକତାକୁ ପୂରଣ କରିବା ପାଇଁ, ଭବିଷ୍ୟତରେ, 0.5। 0.5 ର ସାଂଖ୍ୟିକ ଆପେଚର ସହିତ EUV ଲିଥୋଗ୍ରାଫି ମେସିନ୍ କେନ୍ଦ୍ରୀୟ ଆଲୋକ ଅବରୋଧ ସହିତ ଏକ ପ୍ରୋଜେକସନ ଅବଜେକ୍ଟିଭ୍ ସିଷ୍ଟମ ଗ୍ରହଣ କରିବ, ଯାହା ଅସୀମିତ ବୃଦ୍ଧି 0.25 ଗୁଣ / 0.125 ଥର ବ୍ୟବହାର କରିବ, ଏବଂ ଦୃଶ୍ୟର ସ୍କାନିଂ ଏକ୍ସପୋଜର କ୍ଷେତ୍ର 26m × 33mm ରୁ 26mm × 16.5mm କୁ ହ୍ରାସ ପାଇବ ଏବଂ ଏକକ ଏକ୍ସପୋଜର ରେଜୋଲୁସନ 8nm ତଳେ ପହଞ୍ଚିପାରେ |
————————————————————————————————————————————————— ————————————
ସେମିସେରା ପ୍ରଦାନ କରିପାରିବ |ଗ୍ରାଫାଇଟ୍ ଅଂଶଗୁଡିକ |, ନରମ / କଠିନ ଅନୁଭବ |, ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ଅଂଶଗୁଡିକ |, CVD ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ଅଂଶ |, ଏବଂSiC / TaC ଆବୃତ ଅଂଶଗୁଡିକ |30 ଦିନରେ ପୂର୍ଣ୍ଣ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ପ୍ରକ୍ରିୟା ସହିତ |
ଯଦି ଆପଣ ଉପରୋକ୍ତ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଉତ୍ପାଦଗୁଡ଼ିକ ପାଇଁ ଆଗ୍ରହୀ,ଦୟାକରି ପ୍ରଥମ ଥର ଆମ ସହିତ ଯୋଗାଯୋଗ କରିବାକୁ କୁଣ୍ଠାବୋଧ କରନ୍ତୁ ନାହିଁ |
ଟେଲ: + 86-13373889683
ହ୍ ats ାଟସ୍ ଆପ୍: + 86-15957878134
Email: sales01@semi-cera.com
ପୋଷ୍ଟ ସମୟ: ଅଗଷ୍ଟ -201-2024 |