ବର୍ଣ୍ଣନା
ଆମର କମ୍ପାନୀ ଯୋଗାଏ |SiC ଆବରଣ |CVD ପଦ୍ଧତି ଦ୍ graph ାରା ଗ୍ରାଫାଇଟ୍, ସେରାମିକ୍ସ ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ସାମଗ୍ରୀର ପୃଷ୍ଠରେ ସେବା ସେବା, ଯାହା ଦ୍ carbon ାରା ଅଙ୍ଗାରକାମ୍ଳ ଏବଂ ସିଲିକନ୍ ଧାରଣ କରିଥିବା ସ୍ୱତନ୍ତ୍ର ଗ୍ୟାସ୍ ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରାରେ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା କରି ଉଚ୍ଚ-ଶୁଦ୍ଧତା ସିକ୍ ଅଣୁଗୁଡ଼ିକ ପାଇପାରିବେ, ଯାହାକି ଆବୃତ ସାମଗ୍ରୀର ପୃଷ୍ଠରେ ଜମା ହୋଇପାରିବ |SiC ପ୍ରତିରକ୍ଷା ସ୍ତର |ଏପିଟାକ୍ସି ବ୍ୟାରେଲ୍ ପ୍ରକାର ହାଇ ପ୍ନୋଟିକ୍ ପାଇଁ |
ମୁଖ୍ୟ ବ Features ଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକ
ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ଅକ୍ସିଡେସନ୍ ପ୍ରତିରୋଧ:
ଯେତେବେଳେ ତାପମାତ୍ରା 1600 C ରୁ ଅଧିକ ଥାଏ ସେତେବେଳେ ଅକ୍ସିଡେସନ୍ ପ୍ରତିରୋଧ ବହୁତ ଭଲ |
ଉଚ୍ଚ ଶୁଦ୍ଧତା: ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା କ୍ଲୋରିନେସନ୍ ଅବସ୍ଥାରେ ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା ଦ୍ୱାରା ପ୍ରସ୍ତୁତ |
3। କ୍ଷୟ ପ୍ରତିରୋଧ: ଉଚ୍ଚ କଠିନତା, କମ୍ପାକ୍ଟ ଭୂପୃଷ୍ଠ, ସୂକ୍ଷ୍ମ କଣିକା |
ଜର ପ୍ରତିରୋଧ: ଏସିଡ୍, କ୍ଷାର, ଲୁଣ ଏବଂ ଜ organic ବ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା |
CVD-SIC ଆବରଣର ମୁଖ୍ୟ ବିଶେଷତା |
SiC-CVD ଗୁଣ | | ||
କ୍ରିଷ୍ଟାଲ୍ ଗଠନ | FCC β ପର୍ଯ୍ୟାୟ | | |
ଘନତା | g / cm ³ | 3.21 |
କଠିନତା | | ବିକର୍ସ କଠିନତା | | 2500 |
ଶସ୍ୟ ଆକାର | | μm | 2 ~ 10 |
ରାସାୟନିକ ଶୁଦ୍ଧତା | | % | 99.99995 |
ଉତ୍ତାପ କ୍ଷମତା | | J · kg-1 · K-1 | | 640 |
ସବଲିମେସନ୍ ତାପମାତ୍ରା | | ℃ | 2700 |
ନମନୀୟ ଶକ୍ତି | | MPa (RT 4-point) | 415 |
ୟଙ୍ଗ୍ ମଡ୍ୟୁଲସ୍ | | Gpa (4pt bend, 1300 ℃) | 430 |
ତାପଜ ବିସ୍ତାର (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
ଥର୍ମାଲ୍ କଣ୍ଡକ୍ଟିଭିଟି | | (W / mK) | 300 |