ସେମିକେରା ଦ୍ୱାରା ସିଲିକନ୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ହେଉଛି ଏକ ଉଚ୍ଚ-ଗୁଣାତ୍ମକ, ସଠିକତା-ଇଞ୍ଜିନିୟରିଂ ସାମଗ୍ରୀ ଯାହା ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଶିଳ୍ପର କଠୋର ଆବଶ୍ୟକତା ପୂରଣ କରିବା ପାଇଁ ପରିକଳ୍ପିତ | ଖାଣ୍ଟି ସିଲିକନ୍ ରୁ ନିର୍ମିତ ଏହି ପତଳା-ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ସମାଧାନ ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ସମାନତା, ଉଚ୍ଚ ଶୁଦ୍ଧତା ଏବଂ ଅସାଧାରଣ ବ electrical ଦୁତିକ ଏବଂ ତାପଜ ଗୁଣ ପ୍ରଦାନ କରେ | ସି ୱେଫର୍, ସିସି ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍, ସୋଇ ୱାଫର୍, ସିଏନ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଏବଂ ଏପି-ୱାଫର୍ ଉତ୍ପାଦନ ସହିତ ବିଭିନ୍ନ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ପ୍ରୟୋଗରେ ଏହା ବ୍ୟବହାର ପାଇଁ ଆଦର୍ଶ | ସେମିସେରାର ସିଲିକନ୍ ଫିଲ୍ମ ନିର୍ଭରଯୋଗ୍ୟ ଏବଂ ସ୍ଥିର କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତାକୁ ସୁନିଶ୍ଚିତ କରେ, ଏହାକୁ ଉନ୍ନତ ମାଇକ୍ରୋ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ସ ପାଇଁ ଏକ ଅତ୍ୟାବଶ୍ୟକ ସାମଗ୍ରୀ ଭାବରେ ପରିଣତ କରେ |
ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଉତ୍ପାଦନ ପାଇଁ ସର୍ବୋଚ୍ଚ ଗୁଣ ଏବଂ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା |
ସେମିକେରାର ସିଲିକନ୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଏହାର ଉଲ୍ଲେଖନୀୟ ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଶକ୍ତି, ଉଚ୍ଚ ତାପଜ ସ୍ଥିରତା ଏବଂ ନିମ୍ନ ତ୍ରୁଟି ହାର ପାଇଁ ଜଣାଶୁଣା, ଯାହା ଉଚ୍ଚ କ୍ଷମତା ସମ୍ପନ୍ନ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ତିଆରିରେ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ | ଗାଲିୟମ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ (Ga2O3) ଉପକରଣ, ଆଲଏନ୍ ୱାଫର୍, କିମ୍ବା ଏପି-ୱାଫର୍ସ ଉତ୍ପାଦନରେ ବ୍ୟବହୃତ ହେଉ, ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରଟି ପତଳା-ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଜମା ଏବଂ ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ଅଭିବୃଦ୍ଧି ପାଇଁ ଏକ ଦୃ strong ମୂଳଦୁଆ ପ୍ରଦାନ କରେ | SiC ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଏବଂ SOI ୱାଫର୍ସ ପରି ଅନ୍ୟ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ସହିତ ଏହାର ସୁସଙ୍ଗତତା ବିଦ୍ୟମାନ ଉତ୍ପାଦନ ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ନିରବିହୀନ ଏକୀକରଣକୁ ସୁନିଶ୍ଚିତ କରେ, ଉଚ୍ଚ ଅମଳ ଏବଂ ସ୍ଥିର ଉତ୍ପାଦ ଗୁଣବତ୍ତା ବଜାୟ ରଖିବାରେ ସାହାଯ୍ୟ କରେ |
ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଇଣ୍ଡଷ୍ଟ୍ରିରେ ପ୍ରୟୋଗଗୁଡ଼ିକ |
ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଇଣ୍ଡଷ୍ଟ୍ରିରେ, ସେମିସେରାର ସିଲିକନ୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରକୁ ସି ୱାଫର୍ ଏବଂ SOI ୱାଫର୍ ଉତ୍ପାଦନ ଠାରୁ ଆରମ୍ଭ କରି SiN ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଏବଂ ଏପି-ୱାଫର୍ ସୃଷ୍ଟି ପରି ଅଧିକ ବିଶେଷ ବ୍ୟବହାର ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇଥାଏ | ଏହି ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ଉଚ୍ଚ ଶୁଦ୍ଧତା ଏବଂ ସଠିକତା ମାଇକ୍ରୋପ୍ରୋସେସର ଏବଂ ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ଠାରୁ ଅପ୍ଟୋଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ ଡିଭାଇସ୍ ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ସବୁକିଛିରେ ବ୍ୟବହୃତ ଉନ୍ନତ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକର ଉତ୍ପାଦନରେ ଏହାକୁ ଜରୁରୀ କରିଥାଏ |
ସିଲିକନ୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ଏକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ଭୂମିକା ଗ୍ରହଣ କରିଥାଏ ଯେପରିକି ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ବୃଦ୍ଧି, ୱେଫର୍ ବଣ୍ଡିଂ ଏବଂ ପତଳା-ଫିଲ୍ମ ଡିପୋଜିଟେସନ୍ | ଏହାର ନିର୍ଭରଯୋଗ୍ୟ ଗୁଣ ଶିଳ୍ପଗୁଡିକ ପାଇଁ ବିଶେଷ ମୂଲ୍ୟବାନ ଅଟେ ଯାହା ଅତ୍ୟଧିକ ନିୟନ୍ତ୍ରିତ ପରିବେଶ ଆବଶ୍ୟକ କରେ, ଯେପରିକି ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଫ୍ୟାବରେ କ୍ଲିନରୁମ୍ | ଏହା ସହିତ, ସିଲିକନ୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଉତ୍ପାଦନ ସମୟରେ ଦକ୍ଷ ୱେଫର୍ ହ୍ୟାଣ୍ଡଲିଂ ଏବଂ ପରିବହନ ପାଇଁ କ୍ୟାସେଟ୍ ସିଷ୍ଟମରେ ସଂଯୁକ୍ତ ହୋଇପାରିବ |
ଦୀର୍ଘକାଳୀନ ନିର୍ଭରଯୋଗ୍ୟତା ଏବଂ ସ୍ଥିରତା |
ସେମିସେରାର ସିଲିକନ୍ ଫିଲ୍ମ ବ୍ୟବହାର କରିବାର ଏକ ପ୍ରମୁଖ ଲାଭ ହେଉଛି ଏହାର ଦୀର୍ଘକାଳୀନ ନିର୍ଭରଯୋଗ୍ୟତା | ଏହାର ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ସ୍ଥାୟୀତ୍ୱ ଏବଂ ସ୍ଥିର ଗୁଣ ସହିତ, ଏହି ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଉଚ୍ଚ-ଭଲ୍ୟୁମ୍ ଉତ୍ପାଦନ ପରିବେଶ ପାଇଁ ଏକ ନିର୍ଭରଯୋଗ୍ୟ ସମାଧାନ ପ୍ରଦାନ କରେ | ଏହା ଉଚ୍ଚ ସଠିକତା ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଉପକରଣ କିମ୍ବା ଉନ୍ନତ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ ପ୍ରୟୋଗରେ ବ୍ୟବହୃତ ହେଉ, ସେମିସେରାର ସିଲିକନ୍ ଫିଲ୍ମ ନିଶ୍ଚିତ କରେ ଯେ ଉତ୍ପାଦକମାନେ ବିଭିନ୍ନ ଉତ୍ପାଦରେ ଉଚ୍ଚ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଏବଂ ନିର୍ଭରଯୋଗ୍ୟତା ହାସଲ କରିପାରିବେ |
ସେମିସେରାର ସିଲିକନ୍ ଫିଲ୍ମ କାହିଁକି ବାଛନ୍ତୁ?
ସେମିକଣ୍ଡାରୁ ସିଲିକନ୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଶିଳ୍ପରେ ଅତ୍ୟାଧୁନିକ ପ୍ରୟୋଗଗୁଡ଼ିକ ପାଇଁ ଏକ ଅତ୍ୟାବଶ୍ୟକ ସାମଗ୍ରୀ | ଏହାର ଉଚ୍ଚ କ୍ଷମତା ସମ୍ପନ୍ନ ଗୁଣ, ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ତାପଜ ସ୍ଥିରତା, ଉଚ୍ଚ ଶୁଦ୍ଧତା, ଏବଂ ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଶକ୍ତି, ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଉତ୍ପାଦନରେ ସର୍ବୋଚ୍ଚ ମାନ ହାସଲ କରିବାକୁ ଚାହୁଁଥିବା ନିର୍ମାତାମାନଙ୍କ ପାଇଁ ଏହା ଏକ ଆଦର୍ଶ ପସନ୍ଦ କରିଥାଏ | ସି ୱାଫର୍ ଏବଂ ସିସି ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଠାରୁ ଆରମ୍ଭ କରି ଗାଲିୟମ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ Ga2O3 ଉପକରଣଗୁଡ଼ିକର ଉତ୍ପାଦନ ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ, ଏହି ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରଟି ତୁଳନାତ୍ମକ ଗୁଣ ଏବଂ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ପ୍ରଦାନ କରିଥାଏ |
ସେମିସେରାର ସିଲିକନ୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ସହିତ, ଆପଣ ଏକ ଉତ୍ପାଦ ଉପରେ ବିଶ୍ trust ାସ କରିପାରିବେ ଯାହା ଆଧୁନିକ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଉତ୍ପାଦନର ଆବଶ୍ୟକତା ପୂରଣ କରେ, ପରବର୍ତ୍ତୀ ପି generation ଼ି ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ସ ପାଇଁ ଏକ ନିର୍ଭରଯୋଗ୍ୟ ଭିତ୍ତିଭୂମି ପ୍ରଦାନ କରେ |
| ଆଇଟମ୍ | ଉତ୍ପାଦନ | ଅନୁସନ୍ଧାନ | | ଡମି |
| ସ୍ଫଟିକ୍ ପାରାମିଟରଗୁଡିକ | | |||
| ପଲିଟାଇପ୍ | | 4H | ||
| ସର୍ଫେସ୍ ଆରିଏଣ୍ଟେସନ୍ ତ୍ରୁଟି | | <11-20> 4 ± 0.15 ° | | ||
| ବ Elect ଦ୍ୟୁତିକ ପାରାମିଟରଗୁଡିକ | | |||
| ଡୋପାଣ୍ଟ | | n- ପ୍ରକାର ନାଇଟ୍ରୋଜେନ୍ | | ||
| ପ୍ରତିରୋଧକତା | | 0.015-0.025ohm · cm | ||
| ଯାନ୍ତ୍ରିକ ପାରାମିଟରଗୁଡିକ | | |||
| ବ୍ୟାସ | 150.0 ± 0.2 ମିମି | ||
| ମୋଟା | | 350 ± 25 μm | ||
| ପ୍ରାଥମିକ ଫ୍ଲାଟ ଆଭିଏଣ୍ଟେସନ୍ | | [1-100] ± 5 ° | | ||
| ପ୍ରାଥମିକ ଫ୍ଲାଟ ଲମ୍ବ | | 47.5 ± 1.5 ମିମି | ||
| ଦ୍ Secondary ିତୀୟ ଫ୍ଲାଟ | | କିଛି ନୁହେଁ | | ||
| TTV | ≤5 μm | ≤10 μm | ≤15 μm |
| LTV | ≤3 μm (5mm * 5mm) | ≤5 μm (5mm * 5mm) | ≤10 μm (5mm * 5mm) |
| ଧନୁ | -15μm ~ 15μm | | -35μm ~ 35μm | | -45μm ~ 45μm | |
| ଯୁଦ୍ଧ | ≤35 μm | ≤45 μm | ≤55 μm |
| ସାମ୍ନା (ସି-ଚେହେରା) ରୁଗ୍ଣତା (AFM) | Ra≤0.2nm (5μm * 5μm) | ||
| ଗଠନ | |||
| ମାଇକ୍ରୋପାଇପ୍ ସାନ୍ଧ୍ରତା | | <1 ea / cm2 | <10 ea / cm2 | <15 ea / cm2 |
| ଧାତୁ ଅଶୁଦ୍ଧତା | | ≤5E10atoms / cm2 | | NA | |
| BPD | ≤1500 ea / cm2 | | 0003000 ea / cm2 | | NA |
| TSD | ≤500 ea / cm2 | | 0001000 ea / cm2 | | NA |
| ଆଗ ଗୁଣବତ୍ତା | | |||
| ଆଗ | Si | ||
| ପୃଷ୍ଠଭୂମି ଶେଷ | ସି-ମୁହଁ CMP | ||
| କଣିକା | | ≤60ea / wafer (size≥0.3μm) | NA | |
| ସ୍କ୍ରାଚ୍ | | ≤5ea / mm ସଂଗୃହିତ ଲମ୍ବ ≤ ଡାଇମିଟର | | ସଂକଳନ ଦ length ର୍ଘ୍ୟ≤2 * ବ୍ୟାସ | | NA |
| କମଳା ଚୋପା / ଗର୍ତ୍ତ / ଦାଗ / ଷ୍ଟ୍ରିଏସନ୍ / ଫାଟ / ପ୍ରଦୂଷଣ | | କିଛି ନୁହେଁ | | NA | |
| ଏଜ୍ ଚିପ୍ସ / ଇଣ୍ଡେଣ୍ଟସ୍ / ଫ୍ରାକଚର୍ / ହେକ୍ସ ପ୍ଲେଟ୍ | | କିଛି ନୁହେଁ | | ||
| ପଲିଟାଇପ୍ କ୍ଷେତ୍ରଗୁଡିକ | | କିଛି ନୁହେଁ | | ସଂଗୃହିତ କ୍ଷେତ୍ର ≤20% | | ସଂଗୃହିତ କ୍ଷେତ୍ର ≤30% | |
| ଆଗ ଲେଜର ମାର୍କିଂ | | କିଛି ନୁହେଁ | | ||
| ପଛ ଗୁଣ | |||
| ପଛକୁ ଶେଷ | C- ମୁହଁ CMP | | ||
| ସ୍କ୍ରାଚ୍ | | ≤5ea / mm, ସଂଗୃହିତ ଲମ୍ବ≤2 * ବ୍ୟାସ | | NA | |
| ପଛ ଦୋଷ (ଧାର ଚିପ୍ସ / ଇଣ୍ଡେଣ୍ଟସ୍) | କିଛି ନୁହେଁ | | ||
| ପଛ ରୁଗ୍ଣତା | | Ra≤0.2nm (5μm * 5μm) | ||
| ପଛ ଲେଜର ମାର୍କିଂ | | 1 ମିମି (ଉପର ଧାରରୁ) | ||
| ଧାର | |||
| ଧାର | ଚାମ୍ଫର୍ | | ||
| ପ୍ୟାକେଜିଂ | |||
| ପ୍ୟାକେଜିଂ | ଭାକ୍ୟୁମ୍ ପ୍ୟାକେଜିଂ ସହିତ ଏପି-ପ୍ରସ୍ତୁତ | ମଲ୍ଟି ୱେଫର୍ କ୍ୟାସେଟ୍ ପ୍ୟାକେଜିଂ | | ||
| * ଟିପ୍ପଣୀ ： "NA" ର ଅର୍ଥ କ no ଣସି ଅନୁରୋଧ ଆଇଟମଗୁଡିକ SEMI-STD କୁ ସୂଚିତ କରିପାରିବ ନାହିଁ | | |||
