ଏଲଇଡି ଇଣ୍ଡଷ୍ଟ୍ରିରେ ଆଇସିପି ଇଚିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟା ପାଇଁ SiC ପିନ୍ ଟ୍ରେ |

ସଂକ୍ଷିପ୍ତ ବର୍ଣ୍ଣନା:

ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ହେଉଛି ଏକ ନୂତନ ପ୍ରକାରର ସିରାମିକ୍ସ ଯାହା ଉଚ୍ଚ ମୂଲ୍ୟର କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଏବଂ ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ପଦାର୍ଥ ଗୁଣ ସହିତ |ଉଚ୍ଚ ଶକ୍ତି ଏବଂ କଠିନତା, ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ପ୍ରତିରୋଧ, ମହାନ ତାପଜ ଚାଳନା ଏବଂ ରାସାୟନିକ କ୍ଷୟ ପ୍ରତିରୋଧ ଭଳି ବ features ଶିଷ୍ଟ୍ୟ ହେତୁ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ପ୍ରାୟ ସମସ୍ତ ରାସାୟନିକ ମାଧ୍ୟମକୁ ପ୍ରତିରୋଧ କରିପାରିବ |ତେଣୁ ତ oil ଳ ଖଣି, ରାସାୟନିକ, ଯନ୍ତ୍ରପାତି ଏବଂ ବାୟୁମଣ୍ଡଳରେ SiC ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ, ଏପରିକି ଆଣବିକ ଶକ୍ତି ଏବଂ ସ military ନ୍ୟବାହିନୀର ସିଆଇସି ଉପରେ ସେମାନଙ୍କର ବିଶେଷ ଦାବି ରହିଛି |

ଉତ୍ତମ ଗୁଣ ଏବଂ ଯୁକ୍ତିଯୁକ୍ତ ବିତରଣ ସମୟ ସହିତ ଆମେ ଆପଣଙ୍କର ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ପରିମାଣ ଅନୁଯାୟୀ ଡିଜାଇନ୍ ଏବଂ ଉତ୍ପାଦନ କରିବାରେ ସକ୍ଷମ ଅଟୁ |


ଉତ୍ପାଦ ବିବରଣୀ

ଉତ୍ପାଦ ଟ୍ୟାଗ୍ସ |

ଉତ୍ପାଦ ବର୍ଣ୍ଣନା

ଆମ କମ୍ପାନୀ ଗ୍ରାଫାଇଟ୍, ସେରାମିକ୍ସ ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ସାମଗ୍ରୀର ପୃଷ୍ଠରେ CVD ପଦ୍ଧତି ଦ୍ Si ାରା SiC ଆବରଣ ପ୍ରକ୍ରିୟା ସେବା ଯୋଗାଇଥାଏ, ଯାହା ଦ୍ carbon ାରା ଅଙ୍ଗାରକାମ୍ଳ ଏବଂ ସିଲିକନ୍ ଧାରଣ କରିଥିବା ସ୍ୱତନ୍ତ୍ର ଗ୍ୟାସ୍ ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରାରେ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାଶୀଳ ହୋଇ ଉଚ୍ଚ ଶୁଦ୍ଧତା SiC ଅଣୁ, ଆବୃତ ସାମଗ୍ରୀର ପୃଷ୍ଠରେ ଜମା ହୋଇଥିବା ଅଣୁଗୁଡ଼ିକ, SIC ପ୍ରତିରକ୍ଷା ସ୍ତର ଗଠନ |

ମୁଖ୍ୟ ବ features ଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକ:

1. ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ଅକ୍ସିଡେସନ୍ ପ୍ରତିରୋଧ:

ଯେତେବେଳେ ତାପମାତ୍ରା 1600 C ରୁ ଅଧିକ ଥାଏ ସେତେବେଳେ ଅକ୍ସିଡେସନ୍ ପ୍ରତିରୋଧ ବହୁତ ଭଲ |

2. ଉଚ୍ଚ ଶୁଦ୍ଧତା: ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା କ୍ଲୋରିନେସନ୍ ଅବସ୍ଥାରେ ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା ​​ଦ୍ୱାରା ପ୍ରସ୍ତୁତ |

3. କ୍ଷୟ ପ୍ରତିରୋଧ: ଉଚ୍ଚ କଠିନତା, କମ୍ପାକ୍ଟ ଭୂପୃଷ୍ଠ, ସୂକ୍ଷ୍ମ କଣିକା |

4. କ୍ଷୟ ପ୍ରତିରୋଧ: ଏସିଡ୍, କ୍ଷାର, ଲୁଣ ଏବଂ ଜ organic ବ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା |

ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ଇଟେଡ୍ ଡିସ୍କ (୨)

CVD-SIC ଆବରଣର ମୁଖ୍ୟ ବିଶେଷତା |

SiC-CVD ଗୁଣ |

କ୍ରିଷ୍ଟାଲ୍ ଗଠନ

FCC β ପର୍ଯ୍ୟାୟ |

ଘନତା

g / cm ³

3.21

କଠିନତା |

ବିକର୍ସ କଠିନତା |

2500

ଶସ୍ୟ ଆକାର |

μm

2 ~ 10

ରାସାୟନିକ ଶୁଦ୍ଧତା |

%

99.99995

ଉତ୍ତାପ କ୍ଷମତା |

J · kg-1 · K-1 |

640

ସବଲିମେସନ୍ ତାପମାତ୍ରା |

2700

ନମନୀୟ ଶକ୍ତି |

MPa (RT 4-point)

415

ୟଙ୍ଗ୍ ମଡ୍ୟୁଲସ୍ |

Gpa (4pt bend, 1300 ℃)

430

ତାପଜ ବିସ୍ତାର (CTE)

10-6K-1

4.5

ଥର୍ମାଲ୍ କଣ୍ଡକ୍ଟିଭିଟି |

(W / mK)

300

ସେମିସେରା କାର୍ଯ୍ୟ ସ୍ଥାନ |
ସେମିସେରା କାର୍ଯ୍ୟ ସ୍ଥାନ 2
ଉପକରଣ ଯନ୍ତ୍ର
CNN ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ, ରାସାୟନିକ ସଫେଇ, CVD ଆବରଣ |
ଆମର ସେବା

  • ପୂର୍ବ:
  • ପରବର୍ତ୍ତୀ: